[发明专利]喷墨图案转移制程及其装置有效
申请号: | 200610109742.3 | 申请日: | 2006-08-09 |
公开(公告)号: | CN101121348A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 余丞宏;余丞博 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司 |
主分类号: | B41M3/12 | 分类号: | B41M3/12;B41M1/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷墨 图案 转移 及其 装置 | ||
1.一种喷墨图案转移制程,其特征在于其包括下列步骤:
提供一载具,并喷印油墨在该载具上,以形成一成膜图案;
将该成膜图案与一基板的表面进行面对面接触;
固化该成膜图案;以及
移除该载具,以使该成膜图案转印到该基板的表面。
2.根据权利要求1所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中该基板具有一通孔及一导电层,该导电层位于该通孔中,而该成膜图案对应覆盖在该通孔上方及周围表面。
3.根据权利要求1所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中该基板具有一盲孔及一导电层,该导电层位于该盲孔中,而该成膜图案对应覆盖于该盲孔上方及周围表面。
4.根据权利要求1所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中该载具选自一硬板、一软板或一离型纸,其具有可承载该成膜图案的一平坦表面。
5.根据权利要求1所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中形成该成膜图案之前,更包括对该载具进行亲水性、疏水性或易脱膜处理。
6.根据权利要求1所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中将该成膜图案与一基板的表面进行面对面接触的步骤中,包括将该载具上的成膜图案转印或压合至该基板的表面。
7.根据权利要求1项所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中固化该成膜图案的步骤包括以光固化器所产生的光能照射该成膜图案而成。
8.根据权利要求1所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中固化该成膜图案的步骤包括以热固化器所产生的热能加热该成膜图案而成。
9.一种喷墨图案转移制程,其特征在于其包括下列步骤:
提供一载具,并喷印油墨在该载具上,以形成一成膜图案;
半固化该成膜图案;
将该成膜图案与一基板的表面进行面对面接触;以及
移除该载具,以使该成膜图案转印到该基板的表面上。
10.根据权利要求9所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中该基板具有一通孔及一导电层,该导电层位于该通孔中,而该成膜图案对应覆盖于该通孔上方及周围表面。
11.根据权利要求9所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中该基板具有一盲孔及一导电层,该导电层位于该盲孔中,而该成膜图案对应覆盖于该盲孔上方及周围表面。
12.根据权利要求9所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中该载具选自一硬板、一软板或一离型纸,其具有可承载该成膜图案的一平坦表面。
13.根据权利要求9所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中形成该成膜图案之前,更包括对该载具进行亲水性、疏水性或易脱膜处理。
14.根据权利要求9所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中将该成膜图案与一基板的表面进行面对面接触的步骤中,包括将该载具上的成膜图案转印或压合至该基板的表面。
15.根据权利要求9所述的喷墨图案转移制程,其特征在其中半固化该成膜图案的步骤包括以光固化器所产生的光能照射该成膜图案而成。
16.根据权利要求9所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其中半固化该成膜图案的步骤包括以热固化器所产生的热能加热该成膜图案而成。
17.根据权利要求9所述的喷墨图案转移制程,其特征在于其更包括固化转印到该基板的表面上的该半固化成膜图案。
18.一种喷墨图案转移装置,其特征在于其包括:
一载具,用以放置喷墨所形成的一成膜图案,该成膜图案适于与一基板的表面面对面接触;以及
一固化器,用以固化该成膜图案。
19.根据权利要求18所述的喷墨图案转移装置,其特征在于其中该基板具有一通孔及一导电层,该导电层位于该通孔中,而该成膜图案对应覆盖于该通孔上方及周围表面。
20.根据权利要求18所述的喷墨图案转移装置,其特征在于其中该基板具有一盲孔及一导电层,该导电层位于该盲孔中,而该成膜图案对应覆盖于该盲孔上方及周围表面。
21.根据权利要求18所述的喷墨图案转移装置,其特征在于其中该载具包括一硬板、一软板或一离型纸,其具有可承载该成膜图案的一平坦表面。
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