[发明专利]一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪有效
申请号: | 200610111338.X | 申请日: | 2006-08-23 |
公开(公告)号: | CN101131369A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 田宇纮 | 申请(专利权)人: | 北京普析通用仪器有限责任公司 |
主分类号: | G01N23/083 | 分类号: | G01N23/083 |
代理公司: | 北京市合德专利事务所 | 代理人: | 李本源 |
地址: | 100081北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 兼容 测量 射线 能谱仪 | ||
【权利要求书】:
1.一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪,其特征在于包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中X射线出射窗口与X射线光束同轴,薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间,干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间,安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。
2.如权利要求1所述的一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪,其特征在于所述的薄样品插槽为一厚2~3mm的插槽。
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