[发明专利]采用连续磁控溅射物理气相沉积制备Fe－6.5wt%Si薄板的方法无效
| 申请号： | 200610114114.4 | 申请日： | 2006-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN1944706A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 毕晓昉;田广科 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京永创新实专利事务所 | 代理人： | 周长琪 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 采用 连续 磁控溅射 物理 沉积 制备 fe 6.5 wt si 薄板 方法 | ||
【权利要求书】：
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