[发明专利]记录方法以及光盘装置无效
申请号: | 200610115768.9 | 申请日: | 2006-08-16 |
公开(公告)号: | CN101083088A | 公开(公告)日: | 2007-12-05 |
发明(设计)人: | 渡边康一;峰邑浩行;小林三记;织田一裕 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所;日立乐金资料储存股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/0045 | 分类号: | G11B7/0045;G11B7/125 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 许静 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 方法 以及 光盘 装置 | ||
技术领域
本发明涉及在记录介质上形成物理性质和其它部分不同的记录标记,记录信息的光盘的记录方法以及装置。
背景技术
作为记录型的光盘,CD—R/RW、DVD—RAM、DVD±R/RW、Blu-rayDisc(BD)等多种光盘被产品化,并得到了广泛的普及。作为今后的光盘大容量化的主要技术之一,有形成多个记录层的多层化技术。作为多层化技术一例,已有DVD±R、BD—RE的双层盘已被产品化。在记录型的光盘装置中,针对温度、光源的波长、介质的制造波动等变化因素,为了总是以适当的记录功率实施用户数据的记录,通过称为Optimun Power Calibration(OPC)的方法对各介质实施记录功率的校正。
在多层光盘中,为了防止由于来自实施OPC的层以外的层的返回光(以下称为层间干扰)的影响而在记录功率的决定中产生误差,在目前已产品化的双层盘中,通常进行以下等处理:为了使各层的OPC实施区域在厚度方向上不重叠而进行布置。在OPC方式中,已知有如下方式。
(1)主要用于一次写入型光盘的OPC方式
作为使用不对称量的OPC方式的例子,在特开平6—139574号公报中,公开了使最短标记和空间的重复信号的不对称量和最长标记和空间的重复信号的不对称量相等的方式的OPC技术。
(2)主要用于可擦写型光盘的OPC方式
作为使用信号调制度(或反射率)的OPC方式的例子,在特开2000—306241号公报中公开了:相对于记录功率的变化,使反射率的变化最大的功率乘以系数,来求出记录功率的方式的OPC技术。而且,在特开2003—067925号公报中公开了使用相对记录功率的调制度变化的斜率自身,或者γ值的变化的斜率,来决定记录功率的方式的OPC技术。在此,所谓γ值是以调制的变化率和记录功率的变化率标准化了的值,是相对于记录功率的设定偏移具有公差的指标。作为同种指标具有所谓的κ值,但是通过使用该γ值,可以高精度地求出记录的阈值功率。关于所谓的γ值和K值,已广为光盘技术人员所知,由于超出了本发明的范围,因此在此不进行详细说明。
(3)主要用于区段格式的光盘的OPC方式
在特开平10—320777号公报中公开了测定PLL时钟和数据沿的相位差来测定相当于跳动的量,并据此决定记录功率的方式的OPC技术。
【专利文献1】特开平6—139574号公报
【专利文献2】特开2000—306241号公报
【专利文献3】特开2003—067925号公报
【专利文献4】特开平10—320777号公报
发明内容
如上所述,作为现有的OPC方式,存在使用信号调制度、不对称量、动的方式。另外,在双层光盘中,一般为了减少与其它层的记录/未记录状态等对应的层间干扰的影响,使各层的OPC实施区域在厚度方向上不重叠地进行布置。关于3层以上的光盘,如现有的一样,当使各层的OPC实施区域在厚度方向上不重叠地进行布置时,在具有16层记录层的盘中,不得不使OPC区域变得像单层盘的1/16那样狭窄,或者削减用户数据区域来增大OPC区域自身。考虑可靠性和用户标准的话,两者都是不理想的情况,需要某种新技术。
图1表示通过对BD2层盘再生时的光检测器上的光强度分布进行线性衍射计算,而模拟出的结果的一例。如图中所示,来自对数据进行再生的层(此为1st Layer)的反射光,在光检测器的中央部成像。同时,来自不再生数据的层(在此为2nd Layer)的反射光,由于散焦和球面像差的影响,在大范围内在放置了光检测器的面上成像。在本发明中论述的所谓的层间干扰表示后者的影响,以及前者和后者的光学的干扰。简而言之,将层间干扰光和来自对数据进行再生的层的信号光进行相加,在再生信号中产生偏移。
该模拟结果是在没有像差或光检测器的安装位置的偏离的理想情况下的结果。由于层间干扰光在大范围内分布,因此,例如由于光检测器的位置偏离的情况,检测透镜的安装位置偏离的情况,盘的层间隔偏离的情况等主要原因,层间干扰的大小变化。因此,如果由于光盘或光头的制造波动等主要原因,层间干扰的大小变化,则通过OPC求得的记录功率偏离适当值。在为双层盘时,层间干扰的大小相对于未记录电平(level)最大为15%左右。是光头以及介质的制造波动引起的成分约10%和其它层的记录/未记录状态的不同引起的成分约5%的总和。在3层以上的盘中,预想层间干扰进一步增大
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