[发明专利]用于提高可变发射率热控涂层性能的方法无效
| 申请号： | 200610116534.6 | 申请日： | 2006-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN101152777A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 冯煜东;王艺;王志民;速小梅;赵慨 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
| 主分类号： | B32B33/00 | 分类号： | B32B33/00;B32B9/00;C23C14/34 |
| 代理公司： | 上海蓝迪专利事务所 | 代理人： | 徐筱梅 |
| 地址： | 73003*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 提高 可变 发射 率热控 涂层 性能 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于提高可变发射率热控涂层性能的方法，其特征在于它是在热控涂层中的相变层上表面或上下表面镀制多层红外膜。
2.根据权利要求1所述的用于提高可变发射率热控涂层性能的方法，其特征在于所述相变层为二氧化钒涂层。
3.根据权利要求1所述的用于提高可变发射率热控涂层性能的方法，其特征在于红外膜为光学膜，采用二氧化铈、锗或二氧化钛材料。
4.根据权利要求1所述的用于提高可变发射率热控涂层性能的方法，其特征在于镀制采用直流磁控连续溅射方式进行。
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