[发明专利]一种可变发射率热控涂层及其镀制方法无效
| 申请号： | 200610116535.0 | 申请日： | 2006-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN101152778A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 冯煜东;王艺;王志民;速小梅;赵慨 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
| 主分类号： | B32B33/00 | 分类号： | B32B33/00;C23C14/34 |
| 代理公司： | 上海蓝迪专利事务所 | 代理人： | 徐筱梅 |
| 地址： | 73003*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 可变 发射 率热控 涂层 及其 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种可变发射率热控涂层，其特征在于它是在物体表面依次镀制过渡层膜(1)、金属高反射镀膜(2)、过渡层膜(1)、多层光学膜(3)、相变膜(4)、多层光学膜(3)、防静电膜(5)而形成。
2.根据权利要求1所述的可变发射率热控涂层，其特征在于所述过渡层膜(1)为氧化铝镀膜。
3.根据权利要求1所述的可变发射率热控涂层，其特征在于所述光学膜(3)为红外膜。
4.根据权利要求1所述的可变发射率热控涂层，其特征在于所述相变膜(4)为二氧化钒镀膜。
5.一种镀制权利要求1所述可变发射率热控涂层的方法，其特征在于它采用直流磁控连续溅射方式进行镀制。
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