[发明专利]磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置无效
| 申请号： | 200610116575.5 | 申请日： | 2006-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN1944707A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 吕超;易葵;范正修 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 永磁 装置 | ||
【说明书】：
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