[发明专利]验证DRC配置文件的方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体设计工艺方法，尤其涉及一种利用正确图形和错误图形验证DRC(Design Rule Check，设计规则检查)配置文件的方法。

背景技术

芯片版图设计时必须进行DRC检查，不符合版图设计规则的图案不能保证在硅片上实现，图1说明了版图验证在IC设计中的位置。

任何物理版图验证工具都通过DRC配置文件对版图数据进行检查，其流程如图2所示。DRC配置文件的质量可决定版图设计规则检查的准确性，因此，DRC配置文件必须涵盖版图设计中的每一条规则，并且不能有漏错(版图错误没有检查出来)，不能有伪错(正确的版图被报告有错)。

目前，主要通过手工构建的错误图形和成功流片的设计检验DRC配置文件是否正确，用DRC配置文件检查错误图形应该报告相应的错误，检查成功流片的设计应没有错误，否则表明配置文件有误。

这种方法的缺点是手工构建的错误图形和成功流片的设计不能覆盖版图设计规则中的所有设计规则，因而不能保证DRC配置文件的精确性。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种验证DRC配置文件的方法，能确保DRC配置文件的准确性，并使DRC配置文件对每一条设计规则作精确检查。

为了解决上述技术问题，本发明验证DRC配置文件的方法包括如下步骤：

(1)设计两组图形，一组为正确图形，另一组为错误图形，所述正确图形符合版图设计规则的要求，所述错误图形不满足版图设计规则的要求；

(2)用DRC配置文件分别检查正确图形和错误图形；

(3)如果步骤(2)中的DRC配置文件检查正确图形没有错误，且检查错误图形有相应错误，说明DRC配置文件正确；

(4)如果步骤(2)不能得出步骤(3)的结果，说明DRC配置文件有错误，需进行修改。

本发明的验证DRC配置文件的方法，保证了版图设计规则检查的准确性，为芯片成功流片提供有力保障。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。

图1是现有版图验证在IC设计中所处位置的示意图；

图2是现有DRC配置文件检查版图数据的流程图；

图3是本发明的实施例中正确图形和错误图形的举例示意图；

图4是本发明验证DRC配置文件的方法的流程图。

具体实施方式

本发明验证DRC配置文件的方法，包括如下步骤：设计两组图形，一组为正确图形，该图形符合版图设计规则的要求，另一组为错误图形，该错误图形不满足版图设计规则的要求，这两组图形都包含版图设计中的全部规则；用DRC配置文件分别检查正确图形和错误图形，如果检查正确图形都没有错误，且检查错误图形都有相应规则的错误，说明DRC配置文件正确，否则说明DRC配置文件有错误，需进行修改(见图4)。

本发明验证DRC配置文件的方法，通过参数化单元实现正确图形的设计，使正确图形恰好符合版图设计规则的要求，再由改变参数值一个格点得到错误图形，该错误图形刚好不满足版图设计规则的要求。例如某条规则是金属的最小距离为0.32，则该规则的正确图形和错误图形如图3所示，在正确图形中，表示两个金属之间最小距离的数值为0.32，而在错误图形中，表示两个金属之间最小距离的数值为0.31。然后用DRC配置文件分别检查正确图形和错误图形，如果检查正确图形都没有错误，检查错误图形都有相应规则的错误，说明DRC配置文件正确，否则说明该DRC配置文件有误，需修改。