[发明专利]减少因镜头慧差导致成像畸变的方法

权利要求书

1.一种减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，第一步，在光刻机进行套刻之前，选取掩膜板和硅片平面的相同位置通过透镜成像系统分别成像到透镜成像系统的焦平面空间像收集探测器阵列上；第二步，根据两组成像的空间位置差异计算出透镜成像畸变；第三步，根据计算得出的成像畸变参数通过反馈系统对透镜成像系统的环境参数进行调整。

2.如权利要求1所述的减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，在第一步所述成像的对象可以选取掩膜板和硅片平面的多个相同位置，而第二步计算的成像畸变的数值为平均值。

3.如权利要求1所述的减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，所述第一步中入射到硅片平面的光束能量应远远小于硅片表面光刻胶的Eth值，但需要大于所述焦平面空间像收集探测器阵列的感应值。

4.如权利要求1所述的减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，所述的相同位置为位于掩膜板和硅片平面的周边位置。

5.如权利要求1所述的减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，第三步所述的环境参数包括透镜成像系统的温度和压力。

6.如权利要求1所述的减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，所述透镜成像系统至少包括：主透镜、傅立叶平面附近的45度角度分束板组、45度角度反光镜组、投影透镜组、焦平面空间像收集探测器阵列、电子控制光快门组、曝光光源；所述主透镜为光刻机的投影透镜，主要负责将来自掩膜版的图像成像于硅片平面，所述傅立叶平面附近的45度角度分束板组包括上分束板和下分束板，所述上、下分束板分别对来自掩膜板的光和硅片平面的反射光进行分光，并分别透过45度角度反光镜组的上、下反光镜投影到焦平面空间像收集探测器阵列上；所述电子控制光快门组分为上、下快门，上快门用于对掩膜板光路的控制，下快门用于对硅片表面的反射光路控制；所述投影透镜组，它是位于掩膜版和硅片之间所有透镜的总称，用于形成一个成像的光路；所述曝光光源，用于光刻的曝光光源。

7.如权利要求6所述的减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，所述透镜成像系统还包括附属照明光源，用作背景光源。

8.如权利要求1所述的减少因镜头慧差导致成像畸变的方法，其特征在于，反馈系统主要包括运算处理单元和机械控制单元；所述运算处理单元主要是根据硅片平面和掩膜版的空间像差异来解析出镜头组中哪些透镜发生形变影响光路；所述机械控制单元主要是一些位于投影透镜组的各个透镜位置上的温度及压力的控制单元，其通过对单个或多个透镜局部区域温度或压力的调节来使镜头发生轻微形变用于调节光路。