[发明专利]一种遮光掩膜板的制造方法及其应用

权利要求书

1.一种具有预定图案的掩膜板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

a.在基板的金属膜上不使用遮光板母版形成具有所述预定图案的用于刻蚀金属膜的刻蚀阻挡层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板包含玻璃基板，硅圆片中任一种。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述使用激光制版技术在所述基板的金属膜上形成呈预定图案的刻蚀阻挡层的步骤包括以下步骤：

a1.在所述金属膜上涂覆感光材料层；

a2.使用激光照射在所述感光材料层上需要曝光部分，以获得部分曝光的感光树脂层；

a3.对所述部分曝光的感光材料层进行显影，形成呈所述预定图案的树脂层，以作为所述刻蚀阻挡层。

a4.对具有所述刻蚀阻挡层的所述基板上的金属膜进行刻蚀、剥离剩余刻蚀阻挡层。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述感光材料包含感光树脂。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述激光为红外激光，所述感光树脂为红外敏感树脂。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤i2包括：

-利用受控红外激光束直接在红外敏感树脂层上按所述预定图案来进行扫描成像，形成呈所述预定图案的树脂反应区，其余部分为不反应区。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述步骤a包括：

A1.在所述金属膜上形成呈所述预定图案的可硬化材料层；

A2.对所述可硬化材料层进行硬化处理，以生成所述刻蚀阻挡层。

A3.对具有所述刻蚀阻挡层的所述基板上的金属膜进行刻蚀、剥离剩余刻蚀阻挡层。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述步骤A1包括：

-在所述金属膜上呈所述预定图案的区域喷涂上用于形成刻蚀阻挡层的可硬化材料，以形成所述呈所述预定图案的可硬化材料层；

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述步骤A1包括：

-利用丝网印刷设备与带有所述预定图案的丝网版，在所述金属膜上用可硬化材料进行丝网印刷，以形成所述呈所述预定图案的可硬化材料层。

10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述步骤A1包括：

-利用具有所述预定图案的凸版，在所述金属膜上用可硬化材料进行印刷，以形成所述呈所述预定图案的可硬化材料层。

11.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述步骤A1包括：

-利用具有所述预定图案的凹版，在所述金属膜的基板上用可硬化材料进行印刷，以形成呈所述预定图案的可硬化材料层。

12.根据权利要求7至11中任一项所述的方法，其特征在于，所述可硬化材料包含光致硬化材料，热硬化材料，紫外线硬化材料中任一种材料。

13.根据权利要求1至12任意一项所述的方法，其特征在于，所述掩膜板包含在液晶面板制造过程中用于封框胶硬化、硬化用的遮光掩膜板。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所制作形成刻蚀阻挡层的图案的误差控制在正负100μm以下。

15.一种掩膜板，其特征在于，该掩膜板是使用根据权利要求1至13中任意一项所述的方法制作的。

16.根据权利要求15所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包含在液晶面板制造过程中用于封框胶硬化、硬化用的遮光掩膜板。