[发明专利]一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法无效
申请号: | 200610119424.5 | 申请日: | 2006-12-11 |
公开(公告)号: | CN101135044A | 公开(公告)日: | 2008-03-05 |
发明(设计)人: | 张华伟;施尔畏;陈之战 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/08;C23C14/54;C23C14/58 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 20005*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电感 耦合 溅射 制备 稳定 空穴 氧化锌 薄膜 方法 | ||
1.一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法,包括下述步骤:
(1)以致密的高纯氧化锌作为靶材;
(2)清洗衬底,除去表面的油脂和污物;
(3)将靶材和衬底分别放入溅射室特定位置,抽真空并加热衬底并使其恒温在400~500℃间某个值,通入工作气体氩气和氮气;
(4)开启溅射射频电源,调节其功率为100~300W,开启电感耦合射频源,使其功率处于30~50W,打开衬底挡板开始镀膜;
(5)镀膜完毕,从溅射室取出薄膜进行快速退火,获得稳定的p型氧化锌薄膜。
2.按权利要求1所述的一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法,其特征在于抽真空的真空度低于5×10-3Pa。
3.按权利要求1或2所述的一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法,其特征在于氩气和氮气的流量比在5∶1~1∶1范围内。
4.按权利要求1或2或3所述的一种电感耦合溅射制备稳定空穴型氧化锌薄膜的方法,其特征在于退火制度为退火温度400~550℃,退火时间为5~10分钟。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所,未经中国科学院上海硅酸盐研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610119424.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种原位生长二氧化钛薄膜电极的方法
- 下一篇:便携式终端设备
- 同类专利
- 专利分类