[发明专利]利用纳米压印的微细图案形成方法

权利要求书

1.一种利用纳米压印形成微细图案的方法，其特征在于包含步骤：

在模具上形成整个表面区域中至少有部分区域具有疏水性的微细结构物；

在基片上涂敷亲水性抗蚀涂层；

使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层的表面并施加预定压力；

在使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后移开所述模具，其中移开所述模具时，所述抗蚀涂层的表面区域具有浮雕部和凹雕部，在所述浮雕部形成所述疏水性区域，在所述凹雕部形成亲水性区域。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于具有疏水性的所述微细结构物为分别具有数百纳米至数微米宽度的多个微细凸起。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述模具的表面区域具有浮雕部及凹雕部，在所述凹雕部形成具有所述疏水性的微细结构物。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述亲水性抗蚀涂层为紫外线硬化树脂或热固树脂，以通过加热或照射紫外线进行硬化作业。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述抗蚀涂层的凹雕部的表面区域为平坦的形状，所述抗蚀涂层的浮雕部的表面区域为凹凸形状。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于所述凹凸形状由数百纳米至数微米宽度的多个微细凸起形成。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于在所述抗蚀涂层的表面区域交替形成所述疏水性区域及所述亲水性区域。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于在移开所述模具之后还包含对所述亲水性抗蚀涂层进行蚀刻的步骤，以露出所述基片的一部分。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于在所述模具上形成所述微细结构物的步骤中利用电子束光刻。

10.一种利用纳米压印形成微细图案的方法，其特征在于包含步骤：

准备具有浮雕部和凹雕部的模具，所述凹雕部上刻着具有疏水性的微细结构物；

使所述模具的微细结构物接触涂敷于基片上的亲水性抗蚀涂层的表面区域并施加预定压力；通过加热或照射紫外线使所述抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开；

其中移开所述模具时，所述抗蚀涂层的表面区域具有浮雕部和凹雕部，所述抗蚀涂层的浮雕部根据由多个微细凸起形成的凹凸形状而形成疏水性区域，所述抗蚀涂层的凹雕部以平坦的形状形成亲水性区域。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于具有疏水性的所述微细结构物利用电子束光刻而形成，所述微细结构物为分别具有数百纳米至数微米宽度的多个微细凸起。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于所述抗蚀涂层的表面区域交替形成疏水性区域及亲水性区域。