[发明专利]热处理工艺设备实时加热能力监测方法、工艺设定方法及其设备无效
申请号: | 200610122491.2 | 申请日: | 2006-09-29 |
公开(公告)号: | CN101154092A | 公开(公告)日: | 2008-04-02 |
发明(设计)人: | 郑永顺 | 申请(专利权)人: | 郑永顺 |
主分类号: | G05B19/02 | 分类号: | G05B19/02 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人: | 刘孟斌 |
地址: | 411100湖南省湘潭*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热处理 工艺设备 实时 加热 能力 监测 方法 工艺 设定 及其 设备 | ||
1.一种热处理工艺设备加热能力实时监测方法,其特征是包括以下步骤:
(1)在热处理模组中设置热学参数稳定的,通过与热处理模组进行热交换而自身形成温差的基准试件;
(2)实时收集基准试件上至少两处具有可测温度差的位置的温度(T3,T2)及热处理模组的工艺腔内的工作温度T4;
(3)将上述热处理模组的工作温度T4、基准试件上温度(T3,T2)及(T3,T2)之间的变动范围和变动速度定义为该热处理模组当前运行参数对应于该基准试件的温度(T3,T2)测试点之间的加热能力Wa。
2.一种热处理工艺设备工艺设定方法,其特征是包括以下步骤:
(1)在热处理模组中设置热学参数稳定的,通过与热处理模组进行热交换而自身形成温差的基准试件;
(2)实时收集基准试件上至少两处具有可测温度差的位置的温度(T3,T2)及热处理模组的工艺腔内的工作温度T4;
(3)将上述热处理模组的工作温度T4、基准试件上温度(T3,T2)及(T3,T2)之间的变动范围和变动速度定义为该热处理模组当前运行参数对应于该基准试件的温度(T3,T2)测试点之间的加热能力Wa;
(4)以基准试件的温度(T3,T2)测试点之间部分的热学参数为基准,将待热处理工件的热学参数与基准试件的进行比较,换算出对应于待热处理工件热处理工艺需要的热处理模组的加热能力Wb和相应的运行参数。
3.根据权利要求1或2所述的实时监测方法或工艺设定方法,其特征是:还包含以下步骤:
(1)设定工作温度T4、基准试件上温度(T3,T2)和加热能力Wa的许可工艺规格,该工艺规格由用户定义或将满足工件工艺要求的统计结果作为工艺规格;
(2)将实时监测值与工艺规格比较,如实测结果超出工艺规格范围或者超出设定的警报点,将下达相应参数调整命令给设备控制器调整热处理设备的运行参数直到测试结果满足工艺规格要求。
4.根据权利要求2所述的工艺设定方法,其特征还包括以下步骤:
(1)设定工件经过热处理模组时工作温度T4、基准试件上温度(T3,T2)的变化值的许可工艺规格,该工艺规格由用户定义或将满足工件工艺要求统计结果作为工艺规格;
(2)将实测结果与工艺规格比较,如实测结果超出工艺规格范围或者超出设定的警报点,将下达相应参数调整命令给设备控制器调整热处理设备的运行参数直到测试结果满足工艺规格要求。
5.根据权利要求1或2所述的实时监测方法或工艺设定方法,其特征是:所述的基准试件能根据需要变换位置,变换位置后,要重新监测该热处理模组当前运行参数的加热能力,以及管制范围和规格。
6.根据权利要求1或2所述的实时监测方法或工艺设定方法,其特征是:所述的基准试件包括与热处理模组的工作温度形成温度差的热导体和设置在该热导体上的测试探杆,所述测试探杆底部与热导体保持稳定热导通,顶部靠近热源或工件流动位置附近;所述的基准试件的温度(T3,T2)测试点相应设置在测试探杆的底部适当位置和测试探杆的顶部适当位置。
7.根据权利要求6所述的实时监测方法或工艺设定方法,其特征是:所述的热处理模组的腔内工作温度T4的测试点设置在测试探杆顶部附近。
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