[发明专利]一种电子束对准标记的制作方法及其应用有效
| 申请号： | 200610127868.3 | 申请日： | 2006-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN101149563A | 公开（公告）日： | 2008-03-26 |
| 发明（设计）人： | 刘果果;和致经;魏珂;刘新宇;郑英奎 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/00;H01L21/027;H01L21/768;H01L21/28;H01J37/304 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100029*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电子束 对准 标记 制作方法 及其 应用 | ||
1.一种电子束对准标记的制作方法，其特征在于，该方法包括：
采用Ti/Pt金属结构作为对准标记的金属结构，对衬底材料采用光刻方法进行光刻，在衬底材料最顶层的铝镓氮外延层形成电子束对准标记。
2.根据权利要求1所述的制作电子束对准标记的方法，其特征在于，该方法进一步包括：蒸发标记金属结构Ti/Pt。
3.一种利用电子束对准标记制作有效栅线条的方法，其特征在于，该方法具体包括：
A、对衬底材料采用光刻方法进行光刻，形成电子束对准标记，并蒸发标记金属Ti/Pt；
B、对衬底材料采用光刻方法进行光刻，形成源漏图形，并蒸发源漏金属；
C、退火合金，将源漏金属与衬底材料形成欧姆接触；
D、有源区离子注入隔离；
E、精确辨认对准标记，电子束光刻栅版，完成栅线条曝光；
F、蒸发栅金属，形成有效栅线条。
4.根据权利要求3所述的利用电子束对准标记制作有效栅线条的方法，其特征在于，
步骤A中所述采用的光刻方法为电子束直写光刻，或为普通光学光刻方法；
步骤A中所述标记金属Ti/Pt的金属组分为：Ti/Pt＝60/1000。
5.根据权利要求3所述的利用电子束对准标记制作有效栅线条的方法，其特征在于，步骤B中所述采用的光刻方法为普通光学光刻方法。
6.根据权利要求3所述的利用电子束对准标记制作有效栅线条的方法，其特征在于，步骤C中所述退火温度为750至830℃。
7.根据权利要求3所述的利用电子束对准标记制作有效栅线条的方法，其特征在于，所述步骤E包括：
精确辨认对准标记，以电子束对准标记为基准，电子束直写制作细栅线条，与源漏金属实现精确套刻，完成栅线条曝光。
8.根据权利要求3所述的利用电子束对准标记制作有效栅线条的方法，其特征在于，该方法进一步包括：
G、金属布线，形成有效器件，对金属布线后的器件进行测试分析。
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