[发明专利]用于构图电流垂直平面磁致电阻器件的双研磨工艺无效
| 申请号： | 200610131732.X | 申请日： | 2006-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1945870A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 洪英;威普尔·P·贾亚塞卡拉 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01L43/08 | 分类号： | H01L43/08;H01L43/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 构图 电流 垂直 平面 致电 器件 研磨 工艺 | ||
【权利要求书】：
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