[发明专利]光刻方法有效
| 申请号： | 200610137526.X | 申请日： | 2006-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN1936709A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | K·J·J·M·扎尔;A·J·德科特;F·E·德琼;K·古尔曼;B·门希基科夫;H·F·彭 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王庆海;刘杰 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
【权利要求书】：
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