[发明专利]一种花釉及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种陶瓷用釉料及其制造方法，特别涉及一种花釉及其制造方法。

背景技术

现有技术中，陶瓷制品以其致密度高、收缩变形小、耐磨性好、较好的装饰效果，而成为客户选择的对象，具有广阔的市场，但由于现有技术中瓷片及地砖在施釉程序中对熔块的要求不同，釉料的要求高，施釉量须有一定厚度，烧制温度要求严格，产品不可混烧，生产排产存在一定限制。传统的生料釉在应用于产品时，热稳定性差、容易产生色差、产品易变形、适用范围小；釉面粗糙，且其选料要求严格，产品易吸污，成本偏高。客户需要釉面细腻，成品率高，性能稳定，装饰效果好的产品。

作为陶瓷生产环节中的重要流程“施釉”对制成品的质量起着关键的作用，釉料质量的好坏直接影响着施釉的效果。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种陶瓷用花釉及其制造方法。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：

一种花釉，所述花釉各组分的重量百分比为：钾长石18～38％，方解石10～23％，滑石4～7％，石英3～7％，硅酸锆4～10％，氧化锌2～5％，氧化铝5～10％，碳酸钡3～6％，黑泥6～10％，三聚0～0.3％，水6～20％，印油0～10％，印膏0～10％。

所述釉料细度重量百分比为250目筛余：100％。

一种花釉的制造方法，所述制造方法工艺流程如下：原料进厂→检验→配料→球磨→检测→除铁过筛→入仓→待用。

所述烧成温度为1190～1210℃。

所述烧成周期为50～60min。

本发明采用上述技术方案后可达到如下有益效果：

1、适用范围广。本发明可同时适用于瓷片、地砖及其他陶瓷制品。

2、硬度高。本发明应用于产品时，将产品与抛光砖同时采用LM型陶瓷砖釉面耐磨试验仪进行检测；采用两种试样取100*100规格同时进行样品试验，设定参数4分钟1200转进行研磨，发现本产品完好无损，而抛光砖表面损坏严重。

3、烧成温度宽。本发明使用烧成温度宽，熔制温度为1190～1210℃，故不易产生色差，成品率高。

4、防污性能好。在同等条件下，同时采用应用本发明的产品与抛光砖进行对比，试验试样分别采用了墨水、茶水、红酒、橄榄油等等，进行测试，涂完30分钟后清洗，本产品能完全清洗干净，不留有污渍，而抛光砖明显有污渍存在。

5、防滑性大大提高。由于一些公共场合人较多，必须定期搞卫生，此时若留有积水，很容易使人滑倒，存在一定安全隐患，而本发明应用于产品时，由于吸水率低，故产品表面不易留有积水，产品防滑性得到提高。

6、降低了成本。本发明发色强，大大降低了釉料成本，釉面细腻，质感好，工艺流程合理，具有良好的热稳定性能，烧成曲线窑炉调节不大，平整良好，不会产生后期变形，可降低成本40％左右。

7、使用寿命长。本发明吸水率低于0.15，应用于适用环境时，不易受潮，长时间保持纹路清晰如新，色感优雅。在用于瓷片、地砖时，釉面不吸污，釉面细腻，质感好。

8、产品性能好。本发明应用于产品时，产品抗折强度大于45Mpa，莫氏硬度大于7，抗酸能力强，无辐射。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明(花釉单位为重量百分比)：

实施例1

所述花釉制造方法工艺流程如下：原料进厂，检验后，将18～38％重量份的钾长石，10～23％重量份的方解石，4～7％重量份的滑石，3～7％重量份的石英，4～10％重量份的硅酸锆，2～5％重量份的氧化锌，5～10％重量份的氧化铝，3～6％重量份的碳酸钡，6～10％重量份的黑泥，于常温下搅拌均匀，形成混合料，再添加0～0.3％重量份的三聚，6～20％重量份的水，0～10％重量份的印油，0～10％重量份的印膏，于常温下搅拌均匀，形成一稳定的胶状分散体系，在常温下，经球磨工艺处理后检测是否达标，若达标则进行下一道工序：除铁过筛，最后形成釉用浆料入仓待用。所述釉料细度重量百分比为250目筛余：100％，所述烧成温度为1190～1210℃。所述烧成周期为50～60min。

实施例2