[发明专利]薄膜图案层及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种薄膜图案层及一种薄膜图案层的制造方法。

背景技术

目前制造薄膜图案层的方法主要包括：光微影法及喷墨法。

光微影法：通过在预备涂布所需薄膜的基板结构上，涂敷光阻材料，将具有预定图案的光罩设在光阻材料上，进行曝光及显影，或加上蚀刻制程，而形成具有预设图案的薄膜图案层。该光微影法需要复杂的制程，并且，材料的使用效率较低而造成制造成本高。

喷墨法：提供一个具有由多个挡墙限定的多个收容空间的基板结构，使用一个喷墨装置，由装置上多个喷墨孔，将形成薄膜材料的墨水喷入该多个收容空间内，墨水被固化后于该基板结构上形成预定的薄膜图案层。由于提供的该基板结构往往大于该多个喷墨孔所直接涵盖的面积，因此，喷墨装置尚须提供该多个喷墨孔与该基板结构的行列相对运动，然后该喷墨法就能够一次形成薄膜图案层。由于制程大量简化，材料使用经济，因此成本大幅降低。

现有技术中，由喷墨法形成的薄膜图案层中，包括多个薄膜层，由于利用多个喷墨孔与基板结构行列相对运动完成，故同行中相同材料的薄膜层使用同一个喷墨孔制作，其厚度是相同。因此，该行中同种材料的薄膜层均匀性很高。但是，不同行中相同材料的薄膜层，由于使用不同喷墨孔制作，其厚度又不易相同。因此，当同种材料不同行的间的薄膜层具有不同厚度时，光透过其后，该不同行之间的不同厚度易被人眼分辨出来，因此形成线性条纹缺陷(Mura Defects)。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可减少或消除条纹缺陷的薄膜图案层及一种薄膜图案层的制造方法。

一种薄膜图案层，包括：一个基板，形成在基板上的多个挡墙，该多个挡墙限定多个收容空间，该收容空间呈行列状排列，及多个薄膜层形成在收容空间内，其中，每行的收容空间的容积大小分布是无规律的及每行的多个薄膜层的厚度分布是无规律的。

一种薄膜图案层的制造方法，包括以下步骤：提供一基板，其表面具有多个挡墙，该多个挡墙间形成多个收容空间，该收容空间呈行列状排列于基板上，在该多个收容空间中，每行中的收容空间的容积大小分布是无规律的；填充墨水至该多个收容空间内，使填充至每行中的容积大小无规律分布的收容空间内的墨水是相同材料的且填充至该行中每个收容空间的墨水体积是相同的；及固化墨水以形成多个薄膜层，使每行中相同材料的薄膜层厚度分布是无规律的。

另一种薄膜图案层的制造方法，包括以下步骤：提供一个基板，于该基板上表面涂覆一个光阻材料层；将具有预定挡墙图案的光罩设于该光阻材料层与一个曝光机光源间，并曝光该光阻材料层，其中，光罩中各挡墙预定位置所围成的面积为不同；利用显影方式将非挡墙图案部分的光阻材料层去除，形成设于基板上表面的多个挡墙；填充墨水至该多个收容空间内，使填充至每行中的容积大小无规律分布的收容空间内的墨水是相同材料的且填充至该行中每个收容空间的墨水体积是相同的；及固化墨水以形成多个薄膜层，使每行中相同材料的薄膜层厚度分布是无规律的。

所述的薄膜图案层通过每行中收容空间的容积大小无规律分布，使该行中相同薄膜的薄膜层厚度均匀性被打乱，变得不均匀，从而使光透过其后所产生的条纹缺陷减少或消除。

所述的薄膜图案层制造方法通过将相同薄膜且相同的墨水体积填充至每行中容积大小分布无规律的收容空间，使固化墨水层后所形成的同行中相同薄膜的薄膜层厚度分布是无规律的，使该行中相同薄膜的薄膜层厚度均匀性被打乱，变得不均匀，从而使光透过其后所产生的条纹缺陷减少或消除。

附图说明

图1为本发明第一实施例提供的一种薄膜图案层的一个截面示意图。

图2为本发明第一实施例提供的一种薄膜图案层的另一个截面示意图。

图3为本发明第二实施例提供的一种薄膜图案层的一个截面示意图。

图4为本发明第三实施例提供的一种薄膜图案层制造方法的流程示意图。

图5a至5f为本发明第三实施例提供的一种薄膜图案层制造方法的示意图。

图6为本发明第三实施例提供的一种基板的截面示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明实施例作进一步的详细说明。

请一并参阅图1及2，本发明第一实施例提供一种薄膜图案层100。该薄膜图案层100包括一个基板102、一个形成在基板102上的多个挡墙104及多个薄膜层106。

优选地，该基板102的材料选自玻璃、石英玻璃、硅晶圆(Wafer)、金属和塑料。该多个挡墙104限定多个收容空间107，该多个收容空间107呈行列排列在基板102上。