[发明专利]硅甲烷输送及处理系统及硅甲烷输送及处理方法

权利要求书

1.一种硅甲烷输送及处理系统，包括：

一硅甲烷储存容器，其储存有硅甲烷气体；

一输送管路，连接于该硅甲烷储存容器，用来输送该硅甲烷气体；

一燃烧室，具有一入口以及一出口，其中，该入口与该出口相对；

一旁通管路，连接于该输送管路与该燃烧室的该入口之间，用来将该输送管路中的该硅甲烷气体输送至该燃烧室之中；以及

一风车，设置于该燃烧室的该出口上，用来从该燃烧室的该入口抽取空气至该燃烧室之中，其中，该燃烧室的该入口处的空气流动方向与由该旁通管路所输送至该燃烧室的该入口处的该硅甲烷气体的流动方向同流。

2.如权利要求1所述的硅甲烷输送及处理系统，还包括一可调式风门，其设置于该燃烧室之中，用来调节该燃烧室中的空气流量。

3.如权利要求1所述的硅甲烷输送及处理系统，还包括一压力量测器，其设置于该燃烧室之中，用来量测该燃烧室中的空气压力。

4.如权利要求1所述的硅甲烷输送及处理系统，还包括一真空发生器，其设置于该旁通管路上，用来将该输送管路中的该硅甲烷气体抽送至该燃烧室之中。

5.如权利要求4所述的硅甲烷输送及处理系统，还包括一第一气动阀、一第二气动阀以及一第三气动阀，其中，该第一气动阀及该第二气动阀设置于该输送管路上，该旁通管路位于该第一气动阀与该第二气动阀之间，该第三气动阀及该真空发生器设置于该旁通管路上，而且该真空发生器位于该第三气动阀与该燃烧室的该入口之间。

6.如权利要求1所述的硅甲烷输送及处理系统，其中该风车为一变频风车。

7.一种硅甲烷输送及处理系统，包括：

一硅甲烷储存容器，其储存有硅甲烷气体；

一输送管路，连接于该硅甲烷储存容器，用来输送该硅甲烷气体；

一燃烧室，具有一入口以及一出口，其中，该入口与该出口相对；

一旁通管路，连接于该输送管路与该燃烧室的该入口之间，用来将该输送管路中的该硅甲烷气体输送至该燃烧室之中；以及

一风车，设置于该燃烧室的该入口上，用来从该燃烧室的该入口抽取空气至该燃烧室之中，其中，该燃烧室的该入口处的空气流动方向与由该旁通管路所输送至该燃烧室的该入口处的该硅甲烷气体的流动方向同流。

8.如权利要求7所述的硅甲烷输送及处理系统，还包括一压力量测器，其设置于该燃烧室之中，用来量测该燃烧室中的空气压力。

9.如权利要求7所述的硅甲烷输送及处理系统，还包括一可调式风门，其设置于该燃烧室之中，用来调节该燃烧室中的空气流量。

10.如权利要求7所述的硅甲烷输送及处理系统，还包括一真空发生器，其设置于该旁通管路上，用来将该输送管路中的该硅甲烷气体抽送至该燃烧室之中。

11.如权利要求10项所述的硅甲烷输送及处理系统，还包括一第一气动阀、一第二气动阀以及一第三气动阀，其中，该第一气动阀及该第二气动阀设置于该输送管路上，该旁通管路位于该第一气动阀与该第二气动阀之间，该第三气动阀及该真空发生器设置于该旁通管路上，而且该真空发生器位于该第三气动阀与该燃烧室的该入口之间。

12.如权利要求7所述的硅甲烷输送及处理系统，其中该风车为一变频风车。

13.一种硅甲烷输送及处理方法，包括下列步骤：

将一硅甲烷气体经由一燃烧室的一入口输送至该燃烧室之中；以及

将空气经由该燃烧室的该入口输送至该燃烧室之中，以与该硅甲烷气体发生燃烧反应，其中，该燃烧室的该入口处的空气及该硅甲烷气体的流动方向为同流。

14.如权利要求13所述的硅甲烷输送及处理方法，还包括一步骤：

调节该燃烧室中的空气流量。

15.如权利要求13所述的硅甲烷输送及处理方法，还包括一步骤：

量测该燃烧室中的空气压力。