[发明专利]氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法有效
申请号: | 200610142509.5 | 申请日: | 1997-09-30 |
公开(公告)号: | CN1935927A | 公开(公告)日: | 2007-03-28 |
发明(设计)人: | 吉田诚人;芦泽寅之助;寺崎裕树;仓田靖;松泽纯;丹野清仁;大槻裕人 | 申请(专利权)人: | 日立化成工业株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;H01L21/304 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 钟晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化 研磨剂 以及 研磨 方法 | ||
【权利要求书】:
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