[发明专利]含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器有效

专利信息
申请号: 200610144306.X 申请日: 2006-12-01
公开(公告)号: CN101192739A 公开(公告)日: 2008-06-04
发明(设计)人: 王青;何国荣;渠红伟;韦欣;宋国峰;陈良惠 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/10;H01S5/30;H01S5/32;H01S5/34;H01S5/024
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 掺杂 隧道 垂直 发射 激光器
【权利要求书】:

1.一种含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,包括:

一热沉;

一散热片,该散热片制作在热沉上;

一上N型电极,该上N型电极制作在散热片上的中间处;

一上N型DBR层,该上N型DBR层为一倒梯形,该上N型DBR层制作在上N型电极上;

一高铝组分氧化限制层,该高铝组分氧化限制层位于上N型DBR层中间的两侧;

一绝缘层,该绝缘层制作在上N型DBR层的外侧;

一光学谐振腔,该光学谐振腔制作在上N型DBR层上;

一下N型DBR层,该下N型DBR层制作在光学谐振腔上;

一衬底,该衬底制作在下N型DBR层上;

一下N型电极,该下N型电极制作在衬底上,该下N型电极的中间形成一出光窗口。

2.根据权利要求1所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中光学谐振腔包括:一隧道结;多量子阱有源区,该多量子阱有源区制作在隧道结上。

3.根据权利要求2所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中隧道结包括:一N型层;一P型层,该P型层制作在N型层上。

4.根据权利要求1所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中该出光窗口内的衬底上镀有增透膜。

5.根据权利要求1或4所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中镀有增透膜的出光窗口的直径范围在50微米到400微米之间。

6.根据权利要求1所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中隧道结处于光学谐振腔中的驻波节点处。

7.根据权利要求1所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中隧道结的尺寸与管芯尺寸相同,解理后管芯为正方形,边长为100微米到1000微米之间。

8.根据权利要求1所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中隧道结的反向电流密度大于300A/cm2,以产生较高的反向隧穿电流。

9.根据权利要求1所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中热沉为水冷铜热沉。

10.根据权利要求1所述的含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,其特征在于,其中散热片为金刚石散热片。

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