[发明专利]改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造工艺方法，尤其涉及一种改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法。

背景技术

在对晶圆目检出货时，常常会遇到一些特殊的目检要求，目检晶粒任意分布，很难在实际晶圆上准确找到需要进行目检的晶粒，但是在系统的图上很容易标记出哪些晶粒需要做目检。CP实用系统能将电性测试的结果CP图显示在界面中，而显微镜移动到对应位置后会有光标在该CP图上指示出看到的是哪个晶粒，若有缺陷便可在CP实用系统图上直接标记成不合格芯片，因此在半导体产品显微镜检查的过程中，通过显微镜和CP实用系统之间的连接来指示当前检查的晶圆(见图1)。

在连接显微镜和CP实用系统前需要进行晶圆对准，使显微镜的移动和光标在晶圆图上的移动同步，以指出当前检查的晶粒，但是显微镜在宏观检查的时候会以实际晶圆中心为轴心进行旋转，如图2所示，当晶圆从第一背面目检旋转到第二背面目检时，可能会产生5度角的旋转偏差，造成系统上的晶圆对准失败。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，能有效弥补晶圆对准过程中显微镜产生的旋转偏差。

为了解决上述技术问题，本发明改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，包括在连接显微镜和CP实用系统前，进行晶圆对准，所述晶圆对准包括：以晶圆凹槽为一个固定点C，设晶圆上最靠外侧的任意不重叠的两个完整方格为A点和B点，通过计算A和B、B和C、A和C之间的距离确定晶粒的位置。

本发明改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，使晶圆目检的周期时间缩短90％，且能完全避免目检误差。

附图说明

图1是现有通过显微镜和CP实用系统的连接来指示检查的晶圆的示意图；

图2是现有晶圆对准中显微镜产生旋转偏差的示意图；

图3是本发明一个实施例的示意图；

图4是应用本发明的方法使晶圆图正确指示实际晶圆上的晶粒的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。

本发明的改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，通过一种特殊的对准理论来弥补显微镜的自然偏差，包括在连接显微镜和CP实用系统前，进行晶圆对准，所述晶圆对准包括：以晶圆凹槽为一个固定点C，设晶圆上最靠外侧的任意不重叠的两个完整方格为A点和B点，通过计算A和B、B和C、A和C之间的距离确定晶粒的正确位置。由于C点的位置固定，可根据A、B两点的坐标值计算出A和B、B和C、A和C三段的距离，由该三段的距离可计算出A、B、C三点构成的三角形的角的大小。在本发明方法的一个优选实施例中，A、B、C三点之间形成直角三角形(见图3)，由计算出的A和B、B和C、A和C三段的距离计算B-C偏离C点垂直方向的角度，从而在CP实用系统显示晶圆图时，通过计算程序消除显微镜旋转产生的自然角度偏差，使晶圆图正确指示实际晶圆上的晶粒，如图4所示，当实际晶圆移动到目检晶粒时，晶圆图上的红色标记同时移到相应的位置。

本发明的改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，由于作为C点的晶圆凹槽位置固定，所有通过计算3点的位置来确认晶圆图中心点的方式，可以保证即使实际晶圆旋转一定角度，也可以确保晶圆在显微镜下检查时光标移动点对应正确。