[发明专利]半导体成像装置及其制造方法和摄影机及其制造方法

权利要求书

1.一种半导体成像装置，包括：

规定基材；

位于所述基材上并具有多个半导体成像器件和电极的成像器件阵列，用于在对接收光进行光电转换时输出信号电荷；以及

位于所述成像器件阵列上的滤色层，

其中所述滤色层中含有红外线吸收染料。

2.根据权利要求1的半导体成像装置，其中在所述含有红外线吸收染料的滤色层中使用一种在所需的抗蚀剂材料中以规定比例分散有可见光吸收染料和红外线吸收染料的混合物。

3.根据权利要求2的半导体成像装置，其中使用由以下结构式表示的菁基染料作为所述红外线吸收染料：

4.根据权利要求2的半导体成像装置，其中使用由以下结构式表示的方酸菁基染料作为所述红外线吸收染料：

5.一种制造半导体成像装置的方法，步骤如下包括：

在规定基材上形成具有多个半导体成像器件和电极的成像器件阵列；和

在形成于基材上的成像器件阵列上形成包含红外线吸收染料的滤色层。

6.根据权利要求5的制造半导体成像装置的方法，其中在形成所述含有红外线吸收染料的滤色层时，使用一种在所需的抗蚀剂材料中以规定比例分散有可见光吸收染料和红外线吸收染料的混合物。

7.根据权利要求6的制造半导体成像装置的方法，其中使用由以下结构式表示的菁基染料作为所述红外线吸收染料：

8.根据权利要求6的制造半导体成像装置的方法，其中使用由以下结构式表示的方酸菁基染料作为所述红外线吸收染料：

9.一种摄影机，包括：

规定基材；

位于所述基材上并具有多个半导体成像器件和电极的成像器件阵列，用于在对接收光进行光电转换时输出信号电荷；

位于所述成像器件阵列上的滤色层；和

位于所述滤色层的光照面一侧的透镜，

其中所述滤色层中含有红外线吸收染料。

10.一种制造摄影机的方法，步骤如下包括：

在规定基材上形成具有多个半导体成像器件和电极的成像器件阵列；

在形成于基材上的成像器件阵列上形成包含红外线吸收染料的滤色层；和

在所述滤色层的光照面一侧提供透镜。