[发明专利]用于控制薄膜磁头内保护层退缩的方法无效
申请号: | 200610148551.8 | 申请日: | 2006-11-16 |
公开(公告)号: | CN101017666A | 公开(公告)日: | 2007-08-15 |
发明(设计)人: | 温斯顿·乔斯;鲁迪·阿亚拉;尼拉杰·马哈德夫 | 申请(专利权)人: | SAE磁学(香港)有限公司 |
主分类号: | G11B5/127 | 分类号: | G11B5/127;G11B5/187;G11B5/60;G11B21/21 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 马高平;杨梧 |
地址: | 中国香*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 控制 薄膜 磁头 保护层 退缩 方法 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SAE磁学(香港)有限公司,未经SAE磁学(香港)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610148551.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:制造纳米碳管场效晶体管的方法
- 下一篇:无线销售点交易系统和方法