[发明专利]用于半导体微影制程的系统与方法有效
| 申请号： | 200610149997.2 | 申请日： | 2006-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN1955847A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 陈桂顺;林进祥;高蔡胜;陈俊光;陆晓慈;梁辅杰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 微影制程 系统 方法 | ||
【权利要求书】：
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