[发明专利]用于浸润式微影制程的涂布材料以及浸润式微影的方法有效
| 申请号： | 200610152429.8 | 申请日： | 2006-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1940722A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 浸润 式微 影制程 材料 以及 方法 | ||
【权利要求书】：
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