[发明专利]用于液晶显示器的滤色片基板及其制造方法

权利要求书

1、一种用于液晶显示器的滤色片基板，包括：

形成在透明绝缘基板上的黑矩阵以形成像素区域；

在黑矩阵上用透明感光材料形成的黑矩阵隔离物；和

在像素区域中形成的滤色片。

2、根据权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于，黑矩阵和黑矩阵隔离物通过实施一次光刻工艺同时形成。

3、根据权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于，黑矩阵由吸收光的黑树脂形成。

4、根据权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于，黑矩阵形成为具有1.0微米到1.5微米的厚度。

5、根据权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于，黑矩阵隔离物的厚度可根据滤色片的厚度控制。

6、根据权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于，黑矩阵隔离物形成为具有0.5微米到1.0微米的厚度。

7、根据权利要求1所述的滤色片基板，其中滤色片的厚度可形成为黑矩阵的厚度和黑矩阵隔离物的厚度的和的8/10到10/10。

8、一种用于液晶显示器的滤色片基板的制造方法，该方法包括：

在透明绝缘基板上形成黑矩阵层；

在黑矩阵层上用透明感光材料形成黑矩阵隔离物层；

构图黑矩阵层和黑矩阵隔离物层，以形成限定了像素区域的黑矩阵和黑矩阵隔离物；和

在像素区域中形成滤色片。

9、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩阵和黑矩阵隔离物的步骤中，黑矩阵和黑矩阵隔离物通过实施一次光刻工艺同时形成。

10、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩阵层的步骤中，黑矩阵层由吸收光的黑树脂形成。

11、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩阵层的步骤中，黑矩阵层形成为具有1.0微米到1.5微米的厚度。

12、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩阵隔离物层的步骤中，黑矩阵隔离层由干膜法形成。

13、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩阵隔离物层的步骤中，可以控制黑矩阵隔离物层的厚度以对应于滤色片的厚度。

14、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成黑矩阵隔离物层的步骤中，黑矩阵隔离物层形成为具有0.5微米到1.0微米的厚度。

15、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成滤色片时，滤色片由喷墨方式形成。

16、根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成滤色片时，滤色片的厚度可形成为黑矩阵层的厚度和黑矩阵隔离物层的厚度的和的8/10到10/10。