[发明专利]宏弯曲不敏感光学纤维无效
申请号: | 200610156787.6 | 申请日: | 2006-12-27 |
公开(公告)号: | CN101097273A | 公开(公告)日: | 2008-01-02 |
发明(设计)人: | 金镇杏;都文显;尹暎植 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02;G02B6/036;C03B37/018 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王新华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 弯曲 敏感 光学 纤维 | ||
1.一种光学纤维,包括:
芯部,所述芯部布置在光学纤维的中心以在光学纤维内具有最大折射率;
围绕所述芯部的内包层,所述内包层在光学纤维内具有最小折射率;和
围绕内包层的外包层,所述外包层的折射率低于芯部的折射率而高于内包层的折射率,
其中:芯部的折射率和内包层的最小折射率之间的差Δncore-inner_clad在0.00615到0.00645的范围内,并且外包层的折射率和内包层的最小折射率之间的差Δnouter_clad-inner_clad为0.0006或者比0.0006更大。
2.根据权利要求1所述的光学纤维,其中:
在1310nm的波长处,光学纤维具有8.0μm或者比8.0μm更大的模场直径(MFD)。
3.根据权利要求1所述的光学纤维,其中:
在1310nm的波长处,光学纤维的MFD相对于截止波长的比(MFD/截止波长)是6.6或者比6.6更小。
4.根据权利要求1所述的光学纤维,其中:
在1383nm的波长处,光学纤维具有0.320dB/km或者比0.320dB/km更小的损耗。
5.根据权利要求1所述的光学纤维,其中:
芯部包括SiO2和GeO2,内包层包括SiO2和F,而外包层包括SiO2。
6.根据权利要求1所述的光学纤维,其中:
内包层的直径D与芯部的直径d的比是3.9或者比3.9更大。
7.根据权利要求1所述的光学纤维,其中:
在光学纤维围绕具有20mm直径的圆柱卷绕一次的情况下,在1625nm的波长处,光学纤维具有0.2dB或者比0.2dB更小的宏弯曲损耗。
8.一种光学纤维,包括:
布置在光学纤维的中心的芯部,所述芯部在光学纤维内具有最大折射率;
围绕芯部的内包层,所述内包层在光学纤维内具有最小折射率;和
围绕内包层的外包层,所述外包层的折射率低于芯部的折射率而高于内包层的折射率,
其中:在光学纤维围绕具有20mm直径的圆柱卷绕一次的情况下,在1625nm的波长处,光学纤维具有0.2dB或者比0.2dB更小的宏弯曲损耗。
9.根据权利要求8所述的光学纤维,其中:
在1310nm的波长处,光学纤维具有8.0μm或者比8.0μm更大的模场直径(MFD)。
10.根据权利要求8所述的光学纤维,其中:
在1310nm的波长处,光学纤维的MFD相对于截止波长的比(MFD/截止波长)为6.6或者比6.6更小。
11.根据权利要求8所述的光学纤维,其中:
在1383nm的波长处,光学纤维具有0.320dB/km或者比0.320dB/km更小的损耗。
12.根据权利要求8所述的光学纤维,其中:
芯部包括SiO2和GeO2,内包层包括SiO2和F,而外包层包括SiO2。
13.根据权利要求8所述的光学纤维,其中:
内包层的直径D与芯部的直径d的比是3.9或者比3.9更大。
14.一种用于制造光学纤维的方法,包括以下步骤:
通过烟灰淀积在起始部件上沿着起始部件的纵向方向生成初级烟灰预制棒;
使生成的初级烟灰预制棒脱水;
使脱水的初级烟灰预制棒烧结以获得玻璃化的初级光纤预制棒;
通过使用不用氢气的热源加热玻璃化的初级光纤预制棒而拉伸所述玻璃化的初级光纤预制棒;
切断初级光纤预制棒而获得切断的初级光纤预制棒;
沿着切断的初级光纤预制棒的中心轴线方向通过烟灰淀积在所述切断的初级光纤预制棒上生成外包层以获得二级烟灰预制棒;和
使二级烟灰预制棒脱水并烧结以获得玻璃化的二级光纤预制棒。
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