[发明专利]对光刻衬底上的正色调抗蚀剂层进行构图的方法无效
| 申请号： | 200610160503.0 | 申请日： | 2006-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1945444A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | J·M·芬德斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G03F7/039;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;张志醒 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 衬底 色调 抗蚀剂层 进行 构图 方法 | ||
【权利要求书】：
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