[发明专利]磁场产生装置和磁共振成像设备无效
申请号: | 200610160589.7 | 申请日: | 2006-10-13 |
公开(公告)号: | CN101161199A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | 么佳斌;宫本昭荣;曹凯;张存礼;付诗农 | 申请(专利权)人: | GE医疗系统环球技术有限公司 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055;G01R33/383;H01F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;陈景峻 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁场 产生 装置 磁共振 成像 设备 | ||
技术领域
本发明涉及磁场产生装置和MRI(磁共振成像)设备,尤其涉及产生垂直方向磁场的磁场产生装置,和使用垂直方向磁场的磁共振成像设备。
背景技术
磁共振成像设备配置成,基于通过施加静磁场、梯度磁场和RF(射频)磁场于对象上而收集的磁共振信号重建图像。在垂直磁场型MRI设备中,在垂直方向上面对面放置的一对磁体产生静磁场。静磁场的产生使得其均匀磁场强度区是球形的(例如,见专利文件1)。
【专利文件1】日本专利申请特开No.2001-070284
发明内容
【本发明所要解决的技术问题】
虽然静磁场期望磁场强度越高越好且均匀磁场强度区域越大越好,但相应地,需要具有表面积大的磁极的磁体和相称的大磁路,不可避免的会增加成本。
本发明的目的是提供能够达到在磁场强度、均匀磁场强度区域和成本之间很好的平衡的磁场产生装置,并提供包括上述磁场产生装置的MRI设备。
【解决问题的方法】
用于解决该问题的本发明的一方面,提供产生垂直方向磁场的磁场产生装置,特征在于包括:在垂直方向上面对面放置的一对磁体,具有相反极性的各自的磁极,用于产生静磁场,该静磁场具有在水平平面中两个相互正交的方向上尺寸不同的均匀磁场强度区;一对平面磁性元件,每个元件分别支持该对磁体中的一个;以及垂直的柱状磁性元件,置于与上述两个方向不同的方向上,其每端分别与该对平面磁性元件中的一个相连。
用于解决该问题的本发明的一方面,提供一种MRI设备,其基于通过向对象施加静磁场、梯度磁场和RF(射频)磁场上而收集的磁共振信号重建图像,其特征在于包括:在垂直方向上面对面放置的一对磁体,具有相反极性的各自的磁极,用于产生静磁场,该静磁场具有在水平平面中两个相互正交的方向上尺寸不同的均匀磁场强度区;一对平面磁性元件,每个元件分别支持该对磁体中的一个;以及垂直的柱状磁性元件,置于与上述两个方向不同的方向上,其每端分别与该对平面磁性元件中的一个相连;在一个轴向上可移动的托架,受检者躺在其上;以及用于支撑该托架的台床,其能够使其移动轴的方向与所述两个方向中的任意一个对准。
优选的,静磁场强度区具有椭圆形的水平横截面,由此在磁场强度和均匀磁场强度区之间获得一个很好的平衡。
优选的,该对磁体中每个的磁极表面在所述两个方向上具有不同的尺寸,因此,为磁场提供在磁场强度和均匀磁场强度区之间的平衡。
优选的,该对磁体的磁极表面是椭圆形的,由此均匀磁场强度区具有椭圆形的水平横截面。
优选的,该对磁体的磁极表面是矩形的,由此,均匀磁场强度区域具有椭圆形的水平横截面。
优选的,柱状磁性元件有两个,由此可以很好地支撑平面磁性元件。
【发明效果】
根据本发明,产生垂直方向磁场的磁场产生装置包括:一对磁体,用于产生具有在水平面上相互垂直的两个方向上尺寸不同的均匀磁场强度区的静磁场;一对平面磁性元件,每个元件分别支撑该对磁体中的一个;和垂直柱状磁性元件,放在不同于上述两个方向的方向上,其每端分别与该对平面磁性元件中的一个相连;因此,提供了一种磁场产生装置,其能够在磁场强度、均匀磁场强度区和成本之间实现很好的平衡的磁场,并提供了包括上述磁场产生装置的MRI设备。
附图说明
图1表示实施本发明的最佳实施方式的实例的MRI设备的框图。
图2表示磁场产生装置的结构。
图3表示均匀磁场强度区域。
图4表示成像时磁场产生装置和托架的关系。
图5表示在成像时磁场产生装置与托架的关系。
图6表示台床的结构。
图7表示磁场产生装置的结构。
图8表示磁场产生装置的结构。
图9表示台床的结构。
图10表示磁场产生装置与托架在成像时的关系。
图11表示磁场产生装置与托架在成像时的关系。
附图标记的解释
100:磁场产生装置;102:主磁场磁体部分;106:梯度线圈部分;108:RF线圈部分;120:台床驱动部分;130:梯度驱动部分;140:RF驱动部分;150:数据收集部分;160:控制部分;170:数据处理部分;180:显示部分;190:操作部分;200:磁轭;202:平面磁性元件;204:柱状磁性元件;300:均匀磁场强度区域;500:台床;502:托架;504:支撑底座
具体实施方式
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