[发明专利]平面印张材料无效

专利信息
申请号: 200610162456.3 申请日: 2001-05-19
公开(公告)号: CN101105647A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 沃尔夫冈·波塞特 申请(专利权)人: 沃尔夫冈·波塞特
主分类号: G03G5/16 分类号: G03G5/16;B41M5/30
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 顾嘉运
地址: 德国埃伯丁*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 平面 印张 材料
【权利要求书】:

1.用来制造片状印张(1)的平面印张材料,所述印张用于用涂覆在印张材料(2)上的至少一层涂层(4,4’)来记录信息,其中在涂层(4)内嵌入可磁化微粒(5,9),所述可磁化微粒(5,9)包括排列在高岭土/SBR层中的氧化铁,所述可磁化微粒(5,9)具有小于约3微米的颗粒度。

2.如权利要求1所述的印张材料,其特征在于,所述微粒(5,9)具有2至3微米的颗粒度。

3.如权利要求1或2所述的印张材料,其特征在于,所述印张材料(2)是纸质,以使得其能够被进行书写或打印,从而使得所述印张材料除了能承载可磁化识别的信息外还能承载可光学识别信息。

4.如权利要求1所述的印张材料,其特征在于,所述印张材料具有导电幅面(16)。

5.如权利要求1所述的印张材料,其特征在于,所述印张材料具有微型芯片。

6.如权利要求1所述的印张材料,其特征在于,所述可磁化的微粒(5,9)的面密度在0.1到1.2g/m2

7.如权利要求1所述的印张材料,其特征在于,所述涂层(4,4’)包括细微的空穴(3)。

8.如权利要求7所述的印张材料,其特征在于,所述印张(1)含有具有细微的空穴(3)的单独涂层(4),位于所述印张材料(2)上与具有可磁化微粒(5,9)的涂层(4’)所相对的一侧上。

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