[发明专利]用单个小室破裂细胞并纯化核酸的方法和装置有效

专利信息
申请号: 200610163635.9 申请日: 2006-12-01
公开(公告)号: CN101191128A 公开(公告)日: 2008-06-04
发明(设计)人: 李仁镐;闵畯泓;金荣录;刘在镐;刘昌恩;李廷健;韩基雄 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: C12N15/10 分类号: C12N15/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 封新琴;巫肖南
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 单个 小室 破裂 细胞 纯化 核酸 方法 装置
【权利要求书】:

1.在一个芯片中破裂细胞或病毒并纯化核酸的方法,所述方法包括:

向芯片照射激光束,在所述芯片中,增强细胞裂解的金属氧化物、和结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物顺序沉积在固体支持物上。

2.用单个小室破裂细胞或病毒并纯化核酸的方法,所述方法包括:

将增强细胞裂解的金属氧化物、和结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物顺序沉积在固体支持物上;

将含细胞或含病毒的溶液加到固体支持物上,以用结合细胞或病毒和核酸的沉积的金属氧化物结合细胞或病毒,其中增强细胞裂解的金属氧化物、和结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物沉积在所述固体支持物上;

通过照射激光束破裂结合于结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物的细胞或病毒,以用结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物结合核酸;

用冲洗缓冲液冲洗未结合于结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物的试样;以及

通过添加核酸洗脱缓冲液洗脱结合于结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物的核酸。

3.权利要求2的方法,其中所述增强细胞裂解的金属氧化物、和结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物选自Al2O3、TiO2、Ta2O3、Fe2O3、Fe3O4和HfO2

4.权利要求2的方法,其中所述增强细胞裂解的金属氧化物是Fe2O3,所述结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物是Al2O3

5.权利要求2的方法,其中所述固体支持物选自玻璃载片、硅片、磁珠、聚苯乙烯、膜和金属板。

6.权利要求2的方法,其中含细胞或含病毒的溶液和冲洗缓冲液具有3-10的pH。

7.权利要求2的方法,其中所述含细胞或含病毒的溶液、冲洗缓冲液和核酸洗脱缓冲液选自磷酸盐、醋酸盐、柠檬酸盐和Tris。

8.权利要求2的方法,其中所述含细胞或含病毒的溶液和冲洗缓冲液具有10-1,000mM的浓度。

9.权利要求2的方法,其中核酸洗脱缓冲液具有8-10的pH。

10.权利要求2的方法,其中核酸洗脱缓冲液具有10-100mM的浓度。

11.权利要求2的方法,其进一步包括从固体支持物洗脱核酸后,检测或扩增洗脱的核酸。

12.权利要求11的方法,其中核酸的扩增在不去除核酸洗脱缓冲液的情况下进行。

13.权利要求2的方法,其中所述激光是脉冲激光或连续波激光。

14.权利要求13的方法,其中脉冲激光具有超过1mJ/脉冲的输出,且连续波激光具有超过10mW的输出。

15.芯片,其中增强细胞裂解的金属氧化物、和结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物顺序沉积在固体支持物上。

16.权利要求15的芯片,其中所述固体支持物具有平面或柱状结构。

17.权利要求15的芯片,其中所述增强细胞裂解的金属氧化物、和结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物选自Al2O3、TiO2、Ta2O3、Fe2O3、Fe3O4和HfO2

18.权利要求17的芯片,其中所述增强细胞裂解的金属氧化物是Fe2O3,所述结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物是Al2O3

19.用单个小室破裂细胞并纯化核酸的装置,所述装置包括:

芯片,其中增强细胞裂解的金属氧化物、和结合细胞或病毒和核酸的金属氧化物顺序沉积在固体支持物上;和

产生激光的部件。

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