[发明专利]气体分布装置有效

专利信息
申请号: 200610164845.X 申请日: 2006-12-06
公开(公告)号: CN101197270A 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 荣延栋 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065;H01L21/00;H01J37/32
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人: 赵镇勇;郭宗胜
地址: 100016北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 气体 分布 装置
【权利要求书】:

1.一种气体分布装置,用于向反应腔室供气,包括中部供气装置和边缘供气装置,

所述中部供气装置包括喷嘴,所述喷嘴设于反应腔室的上壁的中部,并与反应腔室相通,用于为反应腔室的中部区域供气;

所述边缘供气装置包括进气环,所述进气环设于反应腔室内上部的边缘部位,用于为反应腔室的边缘区域供气。

2.根据权利要求1所述的气体分布装置,其特征在于,所述的中部供气装置和边缘供气装置设有单独的供气气路,分别为中部供气气路和边缘供气气路,

所述中部供气气路与喷嘴连接,喷嘴上设有进气口,中部供气气路中的气体通过进气口进入反应腔室的中部区域;

所述边缘供气气路与进气环连接,进气环上均匀设置有多个进气孔,边缘供气气路中的气体通过进气孔进入反应腔室的边缘区域。

3.根据权利要求2所述的气体分布装置,其特征在于,所述的中部供气气路和边缘供气气路设有单独的流量控制装置。

4.根据权利要求1或2所述的气体分布装置,其特征在于,所述的进气环为圆环形。

5.根据权利要求4所述的气体分布装置,其特征在于,所述的进气孔设置在进气环的下部,进气孔的方向与反应腔室的侧壁呈0°~90°的夹角。

6.根据权利要求5所述的气体分布装置,其特征在于,所述的进气孔的方向沿反应腔室的侧壁方向向下。

7.根据权利要求5所述的气体分布装置,其特征在于,所述的进气孔的方向与反应腔室的侧壁呈20°~60°的夹角。

8.根据权利要求7所述的气体分布装置,其特征在于,所述的进气孔的方向与反应腔室的侧壁呈30°~45°的夹角。

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