[发明专利]平衡薄膜应力的薄膜制作系统与方法

权利要求书

1.一种平衡薄膜应力的薄膜制作系统，其特征在于，该系统包括有：

一离子辅助蒸镀手段，是在一基材上镀上一第一层薄膜，该第一层薄膜的光学特性接近该基材；以及

一热蒸镀手段，是在该基材上镀上一第二层薄膜，该第二层薄膜与该第一层薄膜具有相反的薄膜应力；

其中该第一层薄膜与该第二层薄膜之一为一具有凸面特性的薄膜，而另一则为一具有凹面特性的薄膜；

藉重复该离子辅助蒸镀手段与该热蒸镀手段形成一多层膜的薄膜结构，并且该平衡薄膜应力的薄膜制作系统在该基材上镀上具有相反应力的该第一层薄膜与该第二层薄膜，藉以调整所形成的薄膜结构的表面平整度。

2.根据权利要求1所述的平衡薄膜应力的薄膜制作系统，其特征在于，该基材为玻璃，而该第一层薄膜为一以SiO₂为主的材料。

3.根据权利要求1所述的平衡薄膜应力的薄膜制作系统，其特征在于，该热蒸镀手段是以加热方式将一或多种具有不同折射率的蒸发源气化后，蒸镀于该基材上。

4.一种平衡薄膜应力的薄膜制作方法，包括有：

制备一为真空状态的镀膜室；

以一离子辅助蒸镀法在一基材上镀上具有一厚度的第一层薄膜；

以一热蒸镀法在该基材上镀上一第二层薄膜，并且该第二层薄膜与该第一层薄膜为相邻且具有相反的薄膜应力；

量测由该基材、该第一层薄膜与该第二层薄膜形成的薄膜结构在工艺前后的一表面平整度变化；

重复该第一层薄膜与该第二层薄膜的工艺，利用改变不同的第一层薄膜厚度，推算出该表面平整度变化与该第一层薄膜之厚度的关系；

利用该表面平整度变化与该第一层薄膜之厚度的关系，依需求产生该薄膜结构；

其中该第一层薄膜与该第二层薄膜之一为一具有凸面特性的薄膜，而另一则为一具有凹面特性的薄膜。

5.根据权利要求4所述的平衡薄膜应力的薄膜制作方法，其特征在于，该基材为玻璃，而该第一层薄膜为一以SiO₂为主的材料。

6.根据权利要求4所述的平衡薄膜应力的薄膜制作方法，其特征在于，该热蒸镀手段是以加热方式将一或多种具有不同折射率的蒸发源气化后，蒸镀在该基材上。

7.一种平衡薄膜应力的薄膜制作方法，包括有：

预备一真空状态的镀膜室；

预备一或多种蒸发源；

预备一离子源；

进行一离子辅助蒸镀步骤，是将该镀膜室内通入一离子源的气体，施加交流电反应形成电浆形式的该离子源后，再藉一电场将离子拉出布植进行辅助的作用在一基材上；

形成一第一层薄膜，该第一层薄膜为一具有特定厚度的单层膜，与该基材具有相近的折射率；

进行一热蒸镀步骤，是以加热方式将一或多种具有不同折射率的蒸发源气化后，蒸镀于该基材上；

形成一第二层薄膜，该第二层薄膜与该第一层薄膜为相邻，且具有相反的薄膜应力；

其中该第一层薄膜与该第二层薄膜之一为一具有凸面特性的薄膜，而另一则为一具有凹面特性的薄膜；

藉该基材上形成具有相反薄膜应力且相邻的该第一层薄膜与该第二层薄膜，以相互平衡薄膜应力形成一具有适当表面平整度的薄膜结构。

8.根据权利要求7所述的平衡薄膜应力的薄膜制作方法，其特征在于，该基材为玻璃，而该第一层薄膜为一以SiO₂为主的材料。

9.根据权利要求7所述的平衡薄膜应力的薄膜制作方法，其特征在于，进行该离子辅助蒸镀步骤后，需停止进行该离子辅助蒸镀步骤的电力，以进行该热蒸镀步骤。

10.根据权利要求7所述的平衡薄膜应力的薄膜制作方法，其特征在于，藉重复该方法的步骤形成一多层膜的薄膜结构。