[发明专利]薄膜图案制造装置及方法有效

专利信息
申请号: 200610168863.5 申请日: 2006-12-08
公开(公告)号: CN101093349A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 金珍郁 申请(专利权)人: LG.菲利浦LCD株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/004;H01L21/00;H01L21/027;H01L21/28
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李辉;吕俊刚
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 薄膜 图案 制造 装置 方法
【权利要求书】:

1、一种薄膜图案制造装置,该薄膜图案制造装置包括:

辊形的印辊装置,其上缠绕有覆层;

喷射装置,其位于所述印辊装置周围,用于向所述覆层喷射抗蚀剂溶液;以及

具有雕刻形状的印板,其上形成有具有期望的薄膜形状的槽以及除该槽以外的突出部分,

并且

其中所述抗蚀剂溶液包含至少一种表面活性剂,所述表面活性剂包含环氧乙烷氟化聚合物材料。

2、根据权利要求1所述的薄膜图案制造装置,其中,所述环氧乙烷氟化聚合物的通式为CF3(CF2)m(CH2CH2O)n,其中m为大约1至10,n为大约8至50。

3、根据权利要求1所述的薄膜图案制造装置,其中,所述环氧乙烷氟化聚合物为CF3(CF2)4(CH2CH2O)10或CF3(CF2)5(CH2CH2O)14

4、根据权利要求1所述的薄膜图案制造装置,其中,所述抗蚀剂溶液具有4%到20%的基础聚合物、40%到60%的载体溶剂、20%到40%的印刷溶剂以及0.05%到1%的表面活性剂。

5、根据权利要求1所述的薄膜图案制造装置,其中,所述表面活性剂具有烃基和氟基的分子结构,并且烃基和氟基的分子随机分布在所述抗蚀剂溶液内。

6、根据权利要求5所述的薄膜图案制造装置,其中,所述烃类分子是环氧乙烷(CH2CH2O)、环氧丙烷(CH2CH2CH2O)或胺(CH2N)中的至少任意一种。

7、根据权利要求5所述的薄膜图案制造装置,其中,所述抗蚀剂溶液与所述印板之间的粘附力强于所述抗蚀剂溶液与所述覆层之间的粘附力。

8、根据权利要求5所述的薄膜图案制造装置,其中,所述基础聚合物是酚醛清漆、聚甲基丙烯酸甲酯或聚丙烯酸甲酯中的任意一种。

9、根据权利要求4所述的薄膜图案制造装置,其中,所述载体溶剂为至少一种醇。

10、根据权利要求4所述的薄膜图案制造装置,其中,所述印刷溶剂为N-甲基吡咯烷酮、苯甲酸乙酯或三异丙苯中的至少任意一种。

11、一种薄膜图案制造方法,该薄膜图案制造方法包括以下步骤:

提供辊形的印辊装置,该印辊装置上缠绕有覆层;

利用包含表面活性剂的抗蚀剂溶液来涂覆所述覆层,所述表面活性剂包含环氧乙烷氟化聚合物;

提供具有雕刻形状的印板,该印板上形成有槽以及除该槽以外的突出部分;以及

将所述抗蚀剂溶液仅转印到所述印板的所述突出部分上,从而使与所述槽相对应的区域上的所述抗蚀剂溶液留在所述印辊装置中。

12、根据权利要求11所述的薄膜图案制造方法,其中,所述环氧乙烷氟化聚合物的通式为CF3(CF2)m(CH2CH2O)n,其中m为大约1至10,n为大约8至50。

13、根据权利要求11所述的薄膜图案制造方法,其中,所述环氧乙烷氟化聚合物为CF3(CF2)4(CH2CH2O)10或CF3(CF2)5(CH2CH2O)14中的任意一种。

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