[发明专利]恢复光刻工艺中横磁波对比度的方法和系统有效
| 申请号： | 200610171821.7 | 申请日： | 2006-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN1975583A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 黎家辉;D·法伊弗;A·E·罗森布卢特 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 于静;刘瑞东 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 恢复 光刻 工艺 中横磁波 对比度 方法 系统 | ||
【权利要求书】：
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