[发明专利]除去光致抗蚀剂和后蚀刻残留物的气体混合物及其应用无效
| 申请号： | 200610172848.8 | 申请日： | 2006-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN101025578A | 公开（公告）日： | 2007-08-29 |
| 发明（设计）人： | C·帕杜拉鲁;A·詹森;D·斯彻尔弗;R·查拉坦;T·乔伊 | 申请（专利权）人： | 兰姆研究公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/36;G03F7/26;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 除去 光致抗蚀剂 蚀刻 残留物 气体 混合物 及其 应用 | ||
【权利要求书】：
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