[实用新型]基片架镀膜装置

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种基片架镀膜装置，尤其是涉及一种用于磁控溅射镀膜生产线上的基片架镀膜装置。

【背景技术】

目前市场上应用的磁控溅射镀膜生产线主要有直线型磁控溅射镀膜生产线和非直线型磁控溅射镀膜生产线两种，其中直线型磁控溅射镀膜生产线中基片架传动机构采用直线垂直传动或垂直U形传动，基片垂直放置，基片架可直线或U形线移动。非直线型磁控溅射镀膜生产线上的基片架传输，采用单导轨设计，基片水平或垂直放置、基片架水平或垂直转动移动。

其中直线型磁控溅射镀膜生产线传输方式技术存在的不足在于：基片架直线垂直放置，使得生产线占地面积大、而且这样的生产线很难实现多个镀膜室同时镀各种不同的膜，缺少灵活性、而且基片架要走另外的回程通道，如果走另外的真空室或洁净室，设备制造成本将会很高；如果不走另外的真空室或洁净室，则产品容易受到污染，产品良品率下降。非直线型磁控溅射镀膜生产线传输方式技术又存在如下缺陷：基片水平放置传动、垂直放置镀膜的生产方式，使得生产线占地面积大，而且单导轨传输基片架也使得生产效率不高。

【实用新型内容】

为了解决现有技术中存在的生产线占地面积大、很难实现多个镀膜室同时镀各种不同的膜，缺少灵活性而且生产效率不高的等问题，本实用新型提供了一种新型结构的基片架镀膜装置，使得基片垂直放置、基片架的传动即可实现直线传动又可实现垂直移动、装卸基片在同一个地点、基片架可沿进去的导轨退回。采用双导轨设计保证必要时两个基片架可以同时进出，多个镀膜室可同时镀膜。

本实用新型为解决现有技术中的问题所采用的技术方案是提供了一种新型结构的基片架镀膜装置，该装置包括基片架、至少一个基片工作室和用于在所述基片工作室内传动所述基片架的工作室传动机构，其特征在于：所述基片架镀膜装置进一步包括用于连接所述至少一个基片工作室的主旋转真空室，所述主旋转真空室内设置用于传动所述基片架的平移机构以及用于以预定角度旋转所述平移机构的旋转机构，以便将所述基片架传送到所需要的工作室。

根据本实用新型的一优选实施例，所述基片工作室分为装片工作室、卸片工作室、基片预处理工作室或基片真空镀膜工作室。

根据本实用新型的一优选实施例，所述装片工作室、所述卸片工作室、所述基片预处理工作室、所述基片真空镀膜工作室通过单独的阀门与所述主旋转真空室相互连通，以使各工作室独立进行工作；所述装片工作室和所述卸片工作室为同一工作室。

根据本实用新型的一优选实施例，所述工作室传动机构和所述平移机构采用至少两根导轨的设计；所述基片架沿所述平移机构的同一导轨进出所述主旋转真空室。

根据本实用新型的一优选实施例，所述平移机构的导轨上的基片架可分别或同时被送入所述基片工作室内。

根据本实用新型的一优选实施例，基片垂直固定在所述基片架上。

本实用新型的有益效果是：通过将溅射镀膜生产线由直线型的设计变成“十字型”的设计，这样更容易实现基片不动进行镀膜和镀膜时真空室阀门关闭，从而提高镀膜产品质量和实现复杂工艺，使生产线体积更小、加工工艺更灵活；双导轨的设计保证了生产线的生产效率。

【附图说明】

图1为基片架镀膜装置中工作室连接结构图；

图2为基片架镀膜装置中平移机构图；

图3为基片架镀膜装置中旋转机构图；

图4为基片架镀膜装置中旋转机构局部放大图。

图中1主旋转真空室、2阀门、3辉光放电、4装片室5卸片室、6、加热器、7移动扫描靶、8真空室内传动导轨、9基片预处理室、10前后移动导轨、11磁导向、12转盘、13支架、14旋转机构

【具体实施方式】

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。