[实用新型]等离子体显示器滤光片及使用该滤光片的显示器

说明书

技术领域：

本实用新型与显示器件中的滤光片有关，特别与等离子体显示器(PDP)中的具有防电磁辐射及滤光功能的滤光片有关，与采用滤光片的等离子显示器有关。

背景技术：

目前的PDP滤光片的抗反射和防电磁辐射及滤光功能是这样形成的：在一片玻璃的外表面粘贴镀有或沉积有抗反射膜层的塑料膜片，在另一面粘贴由二层塑料形成的防电磁辐射和滤光功能的膜片，其中一层是采用光刻蚀法或金属丝网布线方法在膜片上制成金属导电网格形成防电磁辐射功能，在这层具有金属线或金属丝网格的膜上采用刷涂颜料膜形成膜层或用红外光光衰减塑料膜粘贴的方法，由这两层膜形成防电磁辐射及滤光的功能。因为叠层层压复合的方法，各种功能膜在各种膜片上，贴合工艺和复合工艺要求高，不易机械化连续生产，成本高，成品率低，生产效率低，透光率低。

还有公开号CN1509490A的专利文献名称为等离子体显示板滤光片公开了在透明基片上层压和叠层各种抗反射(AR)膜，近红外(NIR)屏蔽膜和电磁干扰(EMI)屏蔽膜，这功能性膜是滤光片需要的关键性膜，他们是分别镀膜在塑料基材或塑料膜上，再按功能需要一层一层的层压和叠层在透明基片上，透明基片是由至少两个薄膜层和至少一个置于树脂层之间的粘结剂层的叠压而成的。

这种分别镀膜，再层压的成形制作方法，仍然与前述方法没有实质进步，仍然效率低、成品率低、成本高。特别是多层次的叠层层压，叠层之间的气泡和粘结剂可能存在的溶剂的残余挥发物，使成品率大为降低。

还有专利申请号200410069275.7的专利文献，名称为叠层体及使用该叠层体的显示器用滤光器公开了在滤光器最需要的关键功能膜电磁干扰(EMI)的屏蔽膜中如何解决EMI屏蔽膜中银膜层的抗氧化或侵蚀问题，在文献中将侵蚀称为银薄膜层的银原子的凝聚，侵蚀的表现为银薄膜层产生“白点”，文献讲在抗电磁干扰的关键薄膜层银薄膜层上为增透而必须具有的透明高折射率的薄膜上也即在三层银薄膜层的最表面层上增加一保护层，该保护层是由高分子物的粘合剂材料和无机微粒子组成，无机微粒子是采用金属氧化物如其推荐的二氧化硅、氧化锡、氧化锌、氧化铟、三氧化二锑、氧化铝、氧化锆等，更特别优先选择氧化锑一氧化锡复合氧化物，氧化锑一氧化锌复合氧化物，粘和剂和无机微粒子是通过溶剂或溶液溶解粘合剂，并分散无机微粒子，用涂布法涂在有银薄膜层和增透高折射率薄膜层组成的膜层上，实际上是涂在高折射率薄膜层上，而最终形成保护层，文献称对形成“白点”有明显惊奇的抑制作用。这种利用溶剂或溶液涂布形成的金属氧化物与粘结剂组合的薄膜层，就工艺过程讲涉及环保问题和污染，薄膜的厚度和可见光透过率不易控制，且在生产线上无法检测产品合格率，不能控制且合格率低，膜层牢度不够，且膜层最表面、在保护层面上测表面电阻率，因有高分子树脂参与组合，表面电阻率反而比不增加该保护层更高，使EMI屏蔽功能下降，降低了三层银的EMI屏蔽能力。该文献讲到了抑制对银薄膜层侵蚀或称减少“白点”的控制办法，但由于只采用在三层银结构薄膜层的最表面层的透明高折射率薄膜层上涂该层保护层，对EMI屏蔽膜的效果还不够，表面电阻率最好只能达2.2Ω/□，还达不到家用电器小于1.5Ω/□的标准，文献没有方法或方案在每层银薄膜层与透明高折射率薄膜层之间分为三层(若是四层银薄膜层结构应有四层)之间增加透明的低折射率的金属氧化物薄膜层的报道或提示，更没有提示利用连续磁控溅射方法来镀这三层或四层透明的低折射率的金属氧化物如ITO(铟锡氧化物)或AZO(铝、锌氧化物)或SnO₂或ZnO或NiCrO_x薄膜与透明高折射率金属氧化物薄膜针对银的薄膜结合来形成减反射增透膜系，也没有利用此设计来提高可见光透光率，提高镀膜层抗氧化抗侵蚀能力及提高EMI屏蔽能力，也即降低其表面电阻率、提高透光率、同时对近红外光、紫红外光阻挡起滤光功能的报道和提示。