[实用新型]磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置

权利要求书

1.一种磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置，包括溅射靶材(3)阴极、阳极及磁铁部件(4)，其特征在于所述的磁铁部件(4)是由许多的小的具有保护套(14)的按一定形状排列不直接与冷却水接触的圆柱形磁铁(15)构成的。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置，其特征在于所述的溅射靶材(3)由开口螺母压盖(2)旋压在一溅射靶材支撑结构(5)上，所述的溅射靶材支撑结构(5)和溅射靶材(3)之间形成一圆筒形空腔，该圆筒形空腔内置放所述的磁铁部件(4)和冷却水，该圆筒形空腔的底部中央有冷却水出水通道(8)和冷却水进水通道(9)，在冷却水出水通道(8)和冷却水进水通道(9)之外围通过绝缘层(6)设置开口螺母支撑结构(7)，所述的阳极是一开口螺母式旋盖(1)，所述的开口螺母式旋盖(1)旋盖在所述的开口螺母支撑结构(7)上，所述的磁铁部件(4)是由多个置于磁铁保护套(14)内的圆柱形磁铁(15)并中心对称地分立地置于一非磁性圆环形金属片(13)上，所述的磁铁部件(4)置于所述的溅射靶材支撑结构(5)和溅射靶材(3)之间的圆筒形空腔中。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置，其特征在于所述的磁铁部件(4)的具体结构是：圆柱形磁铁(15)放置在圆筒形保护套(14)中，保护套(14)下部带有外螺纹，将多个带保护套(14)的圆柱形磁铁(15)通过外螺纹呈三个圆层排布，中心对称地分立地旋固在一非磁性圆环形金属片(13)上，且相邻两层磁铁的极性方向相反，各层磁铁顶部分别用磁性金属圆环(11、12)盖住，并密封。