[实用新型]自动炉门开启装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于卧式等离子体增强化学气相淀积设备的自动炉门开启装置，进一步是指用于反应室真空密封的自动炉门开启装置。

背景技术

在半导体行业、光伏行业等领域，一些真空设备中如卧式低压气相化学淀积(LPCVD)，或卧式增强等离子体气相化学淀积(PECVD)等设备中，特别是自动化程度比较高的设备，由于有真空密封要求，炉门一直是真空易泄漏的地方；以往炉门一般放在推舟上，与推舟同时工作来实现密封。但随着设备和工艺要求的提高，要求在反应时，推舟退出反应室，从而使炉门与推舟分离。所以炉门的自动开启需要有一套单独的装置来完成，同时要在有限的空间内完成。

实用新型内容

本发明要解决的技术问题是，针对现有存在的问题，提出一种自动炉门开启装置，为反应室的真空密封炉门，它可以保证炉门与推舟完全脱离，其所占空间可利用现有设备的废气室空间，炉门的密封可靠，能实现完全的自动化控制，且结构简单，便于安装、拆卸。

本实用新型的技术解决方案是，所述自动路们开启装置有一实体法兰形炉门，其结构特点是，它还有一块底板，该底板上固定安装有直线导轨和推动气缸，滑动底座的底部同装在所述直线导轨上的滑块固定连接且所述推动气缸的活塞前端同所述滑动底座连接，旋转气缸固定安装在该滑动底座上且其旋转轴上装有随该轴旋转的轴套，轴套装有轴承而该轴承装在固定于滑动底座上的轴承座中，一个Y型连接臂的底端同所述轴套的前端固定连接而其两个上端同所述炉门背面相连接。

以下对本实用新型做出进一步说明。

如图1和图2所示，本实用新型有一实体法兰形炉门1，其结构特点是，它还有一块底板13，该底板13上固定安装有直线导轨10和推动气缸12，滑动底座9的底部同装在所述直线导轨10上的滑块14固定连接且所述推动气缸12的活塞前端同所述滑动底座9连接，旋转气缸8固定安装在该滑动底座上且其旋转轴上装有随该轴旋转的轴套15，而轴套15装有轴承6，所述轴承6装在固定于滑动底座9上的轴承座5中，一个Y型连接臂2的底端同所述轴套15的前端固定连接而其两个上端同所述炉门1背面相连接。

所述Y型连接臂的两个上端同炉门1背面相连接的结构可以是(参见图2)，所述Y型连接臂两个上端各装有一个轴套16，一端固定在所述炉门1相应位置的二个轴套17分别套接在对应轴套16中并采用间隙配合，轴套17中装有弹簧3，螺栓18的一端同轴套17内孔成螺纹连接而另一端位于轴套16外端并装有锁紧螺母4。

本实用新型的设计原理是(参见图1至2)，将所述结构的自动炉门开启装置安装在设备废气室中，为了不与推舟发生干涉，炉门处于悬臂支持状态。推动气缸12为导向气缸，它推动底板滑动底座9在直线导轨10上前进或后退，从而带动炉门1的关或开。推动气缸12、直线导轨10均保证了炉门1沿直线方向运动，而且推动灵活；可使气缸的行程略大于炉门开启时与反应室之间的距离，这样炉门1与反应室接触后，有一预紧力使炉门与反应室压紧。炉门1上两个轴套17与Y型连接臂2上端的两个轴套16的间隙配合及中间的弹簧3保证了推动气缸12的力均匀的压在炉门1上，也防止炉门在推动压紧过程中卡死情况的出现。旋转气缸8主要的作用是当推舟进退时完全让炉门完全让开，脱离反应室，避免干涉，所以旋转气缸主要是正反方向转动。旋转气缸8的轴与轴套15都固定在轴承座5上，轴承座5承受炉门1静态时的重力，从而减轻旋转气缸8的轴的受力，有效的保护了气缸。旋转气缸的选用只要满足转动时的转距即可。

可在整套装置上的各气缸配置磁性到位开关，以方便的检测到到位信号，从而实现自动控制。通过在各个气缸的进出气处设置一个节流阀，通过调节节流阀能达到需要的速度。

由以上可知，本发明的自动炉门开启装置，能够保证炉门均匀、缓慢地与反应室紧接触，满足真空密封的要求，同时通过旋转气缸避免与推舟的干涉；整套装置结构紧凑、密封可靠、易控制，方便调节、安装、拆卸。

附图说明

图1是本发明一种实施例的正视结构示意图；

图2是图1所示装置的A-A向转剖视结构图；

在附图中：

1-炉门，      2-Y型连接臂，    3-弹簧，

4-螺母，      5-轴承座，       6-轴承，

7-直角支块，  8-旋转气缸，     9-滑动底座，

10-直线导轨， 11-T型连接块，   12-推动气缸，

13-底板，     14-滑块，        15-轴套，