[实用新型]磁流变效应平面研磨抛光装置无效
申请号: | 200620155638.3 | 申请日: | 2006-12-31 |
公开(公告)号: | CN201026589Y | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 阎秋生;高伟强;路家斌 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B1/00;C09G1/18;C09G1/02 |
代理公司: | 广州粤高专利代理有限公司 | 代理人: | 林丽明 |
地址: | 510090广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流变 效应 平面 研磨 抛光 装置 | ||
1.一种磁流变效应平面研磨抛光装置,加工面为平面的工件安装于回转工作台上,回转工作台与回转工作台主轴相连,回转工作台主轴与回转工作台主轴电机及传动机构连接;研磨工具X向进给系统和研磨工具Y向进给系统安装在机身台架上并与机床研磨盘主轴连接,研磨工具主轴电机与研磨工具主轴传动机构连接,机床研磨盘主轴与研磨工具主轴传动机构连接并安装在机身台架上,其特征在于:上述机床研磨盘主轴安装有研磨工具,由研磨抛光液喷嘴加注研磨抛光液到研磨工具与工件之间。
2.根据权利要求1所述的平面研磨抛光装置,其特征在于:上述研磨抛光液中的游离磨料微粒被磁流变液中的铁磁性粒子链包裹、约束在一起构成磁流变效应研磨刷。
3.根据权利要求1所述的平面研磨抛光装置,其特征在于:上述研磨工具选用点阵式磁性平面研磨工具。
4.根据权利要求1所述的平面研磨抛光装置,其特征在于:上述研磨工具另选用分布式磁性平面研磨工具。
5.根据权利要求3所述的平面研磨抛光装置,其特征在于:上述点阵式磁性平面研磨工具上分布有若干微细棒柱形状的磁性体构成磁流变效应研磨刷的阵列,上述点阵式磁性平面研磨工具的基体由非磁性材料制成,微细棒柱形状的磁性体选用单元永磁柱体或单元铁磁柱体,上述单元铁磁柱体环绕电磁线圈接通直流电源并和导电铜圈滑块组件连接。
6.根据权利要求4所述的平面研磨抛光装置,其特征在于:上述分布式磁性平面研磨工具由铁磁材料制成的分布式磁性平面研磨工具磁性体经铜分割带分割成环状结构,隔磁垫圈安装在分布式磁性平面研磨工具磁性体与分布式磁性平面研磨工具基体之间,分布式磁性平面研磨工具基体镶嵌电磁线圈或永磁套圈,分布式磁性平面研磨工具基体由非磁性材料制成。
7.根据权利要求1所述的平面研磨抛光装置,其特征在于:上述研磨工具的研磨端面整体宏观上呈平面形状。
8.根据权利要求1所述的平面研磨抛光装置,其特征在于:上述研磨工具本身旋转或不旋转。
9.根据权利要求1所述的平面研磨抛光装置,其特征在于:上述工件材料为光学玻璃、硬质合金、工程陶瓷或不锈钢。
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