[实用新型]磨抛机自动滴研磨液装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种自动滴研磨液装置，特别是指一种磨抛机自动滴研磨液装置，其是用于研抛晶体及金属材料(金相)。

背景技术

随着材料科学的进步和发展，用于晶体，半导体，金属等材料加工的磨抛机广泛应用于各个领域，在材料进行磨抛的过程中，由于材料研磨面和研磨盘之间相对摩擦，一方面需要加入磨料进行快速有效的研磨，另一方面需要加水降温，因此自动滴研磨液装置必不可少。市面上用于磨抛机的自动滴研磨液装置基本上如图所示，上端为一透明瓶，在瓶口处有一旋钮开关，控制研磨液的流速。但是在使用过程中，这样的设计有很多问题：第一，由于瓶子是平底的，研磨液通常会有部分残留在瓶子底部，造成了磨料的浪费；第二，由于用的是旋钮开关，如果加工不够精细，研磨液会从旋钮的缝隙中留出，或因为长时间操作，磨料会沉积在旋钮内部，使得旋钮的旋转变得不灵活，不灵敏，影响了操作。

发明内容

本实用新型的目的在于，提供一种磨抛机自动滴研磨液装置，其既不浪费磨料，又能使开关和研磨液隔离，从而不会因长时间使用而对开关的灵活性灵敏性造成影响。

为实现上述目的，本实用新型一种磨抛机自动滴研磨液装置，其特征在于，包括：

一漏斗；

一软管，该软管与漏斗下端连接；

一控制开关，该控制开关位于软管上。

其中该控制开关包括：一滑块，该滑块大致为一梯形，该滑块中间有一孔，该滑块梯形的斜面平行有一滑槽，在滑槽装有一压轮，该压轮压制于软管，所述的软管穿过控制开关上的孔。

其中压轮的表面滚制有可增加摩擦力的花纹。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型的磨抛机自动滴研磨液装置，具有其可使研磨液只在一个顺滑的软管中流通，实现了控制器开关和液体的完全隔离，不会使研磨液从控制开关渗漏，或者是研磨液所携带的磨料沉积在控制开关上，从而完全不会因为长时使用影响操作的灵活和灵敏性。

附图说明

为进一步说明本实用新型的技术内容以下结合实施例及附图详细说明如后，其中：

图1是本实用新型的立体剖面图；

图2是本实用新型使用于磨抛机上的立体示意图。

具体实施方式

请参阅图1所示，本实用新型一种磨抛机自动滴研磨液装置，包括：

一漏斗10；

一软管20，该软管20与漏斗10下端连接；

一控制开关30，该控制开关30位于软管20上。

其中该控制开关30包括：一滑块40，该滑块40大致为一梯形，该滑块40中间有一孔43，该滑块40梯形的斜面平行有一滑槽41，在滑槽41装有一压轮42，该压轮42压制于软管20，所述的软管20穿过控制开关30上的孔43。

其中压轮42的表面滚制有可增加摩擦力的花纹。

请再参阅图1所示，本发明用于盛放研磨液的漏斗10，因为研磨液中有不溶于水的磨料，而且容易沉淀，做成漏斗状，不会使磨料沉积于容器底部，避免了因此造成的浪费。漏斗下部连接了一条软管20，在软管20上安装了类似医用输液器的控制开关30，该控制开关30包括一个梯形的滑块40，滑块上端开有一孔43，可以使软管20通过，滑块40的斜面平行有一滑槽41，在滑槽41上装有一压轮42。压轮42沿滑槽41中上下运动可以控制研磨液在软管20中的流量。这样的设计一方面使得研磨液只在软管20中流通，实现了控制开关30和液体的完全隔离，不会使研磨液从控制开关30渗漏，或者是研磨液所携带的磨料沉积在控制开关30上，从而完全不会因为长时使用影响操作的灵活和灵敏性。

本实用新型使用方法为：

请结合参阅图2，图2是将滴研磨液装置安装于磨抛机时的示意图，使用时当把控制流量的压轮42拨到最下方，此时控制开关30处于关闭状态，液体不能从软管20中流过。根据需要的研磨液流速，轻推压轮42，使压轮42在滑槽41上适当的位置以保证获得需要的稳定的研磨液流速。