[发明专利]用于光掩模的大型玻璃基板及其制造方法、计算机可读记录介质以及母玻璃曝光方法有效
| 申请号： | 200680000217.6 | 申请日： | 2006-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN101006021A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | 上田修平;柴野由纪夫;渡部厚;草开大介 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C03C19/00 | 分类号： | C03C19/00;H01L21/027;G03F1/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 曲瑞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光掩模 大型 玻璃 及其 制造 方法 计算机 可读 记录 介质 以及 曝光 | ||
【说明书】：
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