[发明专利]曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，将通过具有多个光学单元的光学系统而投影在物体上的图样的像，利用上述光学系统与上述物体的相对移动，以便使上述图样的像曝光转写至上述物体上，上述曝光装置的特征在于：

具有上述多个光学单元的一部份的第1光学单元以及具有与上述第1光学单元不同的上述光学单元的第2光学单元，在与上述相对移动的扫描方向相关的情况下配置成使上述光学单元所造成的像的位置不相同；以及

上述曝光装置还具备：

变位量测定装置，其对上述第1和第2光学单元的相对变位量进行测定，

补正装置，补偿上述多个光学单元的变动，所述补正装置依据上述已测定的相对变位量来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述变位量测定装置对上述第1和第2光学单元的相对并进量以及姿势差的至少其中之一进行测定。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述变位量测定装置对上述第1和第2光学单元的与上述扫描方向、以及与上述扫描方向垂直交叉的方向的至少一方向有关的相对变位量进行测定。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述光学系统是一种形成正立正像的光学系统，上述变位量测定装置对上述第1和第2光学单元的倾斜量的差进行测定。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于还包括：

支持构件，其上设置着上述第1光学单元和上述第2光学单元，使得在与上述相对移动的扫描方向相关的情况下，由上述光学单元所造成的像的位置不相同；以及

计测装置，其对与上述支持构件的变形有关的信息进行计测；

上述补正装置依据上述与已计测的变形有关的信息及上述已测定的相对变位量，来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

6.如权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，上述计测装置对与上述扫描方向、以及与上述扫描方向垂直交叉的方向的至少一方向有关、且与上述支持构件的变形有关的信息进行计测。

7.如权利要求1或5所述的曝光装置，其特征在于，上述补正装置通过上述物体的姿势控制，来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的像的位置进行补正。

8.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于还包括：

含有空间光调变器的可变成形光罩，其中上述空间光调变器使用于上述图样的像的形成，

上述可变成形光罩是对应于上述光学系统与上述物体的相对移动来控制上述空间光调变器，

上述补正装置通过对上述空间光调变器的控制，来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

9.如权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，上述空间光调变器分别对应于上述多个光学单元而设置着，上述补正装置通过对上述多个空间光调变器的控制来对多个上述像的位置各别地进行补正。

10.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述多个光学单元中的至少1个具有一补正光学系统，其对投影至上述物体上的像的位置进行补正，

上述补正装置利用上述补正光学系统来对上述第1和第2光学单元的至少其中之一的上述像的位置进行补正。

11.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述物体是一种外径较500毫米还大的感光基板。

12.一种微元件的制造方法，包括：

曝光过程，其使用如权利要求1～11中任一项所述的曝光装置，以使上述图样的像在上述物体上曝光；以及

显像过程，其对由上述曝光过程所曝光转印的上述物体上的图样进行显像。