[发明专利]曝光方法、形成凸起和凹陷图案的方法以及制造光学元件的方法

权利要求书

1.一种适合于制造具有凸起和凹陷图案的元件的曝光方法，包括：

在基板的表面上形成具有预定厚度的光敏材料的层上照射激光束，同时控制激光束的光束强度和光束扫描速度，

其中通过部分控制光敏材料的反应时间常数，同时发射激光光束进行曝光。

2.根据权利要求1的曝光方法，其中预期的曝光宽度小于激光束的艾里斑的直径。

3.根据权利要求1的曝光方法，其中激光束是时间和空间的相干光。

4.根据权利要求2的曝光方法，其中激光束是时间和空间的相干光。

5.一种适合于制造具有凸起和凹陷图案的元件的曝光方法，包括：

以脉冲状态在基板的表面上形成的具有预定厚度的光敏材料的层上照射激光束，同时控制激光束的光束强度和脉冲宽度，

其中通过部分控制光敏材料的反应时间常数，同时以脉冲状态发射激光光束进行曝光。

6.根据权利要求5的曝光方法，其中预期的曝光宽度小于激光束的艾里斑的直径。

7.根据权利要求5的曝光方法，其中激光束是时间和空间的相干光。

8.根据权利要求6的曝光方法，其中激光束是时间和空间的相干光。

9.一种用来形成凸起和凹陷图案的方法，包括：

在基板的表面上形成具有预定厚度的光敏材料层；

通过控制激光束的光束强度和光束扫描速度部分控制光敏材料的反应时间常数进行曝光，同时在光敏材料层上发射激光束；

曝光后，进行光敏材料层的显影；以及

在光敏材料层上形成多个精细凸起和凹陷图案。

10.根据权利要求9的形成凸起和凹陷图案的方法，其中凸起和凹陷图案的高度设定为0.1-100μm。

11.根据权利要求9的形成凸起和凹陷图案的方法，其中基板是柱状体或圆柱体。

12.一种通过使用权利要求9所述的形成凸起和凹陷图案的方法来制造光学元件的方法，包括：

制造压模，通过使用在基板的表面上形成的多个凸起和凹陷图案将多个凸起和凹陷图案的表面形状转移到压模；以及

使用该压模，通过模制，在树脂材料的表面将多个凸起和凹陷图案复制成多个形状基本相同的凸起和凹陷图案。

13.根据权利要求10所述的用来形成凸起和凹陷图案的方法，其中基板是柱状体或圆柱体。

14.一种通过使用权利要求10所述的形成凸起和凹陷图案的方法来制造光学元件的方法，包括：

制造压模，通过使用在基板的表面上形成的多个凸起和凹陷图案将多个凸起和凹陷图案的表面形状转移到压模；以及

使用该压模，通过模制，在树脂材料的表面将多个凸起和凹陷图案复制成多个形状基本相同的凸起和凹陷图案。

15.一种通过使用权利要求11所述的形成凸起和凹陷图案的方法来制造光学元件的方法，包括：

制造压模，通过使用在基板的表面上形成的多个凸起和凹陷图案将多个凸起和凹陷图案的表面形状转移到压模；以及

使用该压模，通过模制，在树脂材料的表面将多个凸起和凹陷图案复制成多个形状基本相同的凸起和凹陷图案。

16.一种通过使用权利要求12所述的形成凸起和凹陷图案的方法来制造光学元件的方法，包括：

制造压模，通过使用在基板的表面上形成的多个凸起和凹陷图案将多个凸起和凹陷图案的表面形状转移到压模；以及

使用该压模，通过模制，在树脂材料的表面将多个凸起和凹陷图案复制成多个形状基本相同的凸起和凹陷图案。