[发明专利]制备显示器用阵列板的方法

权利要求书

1.一种用于制备显示器用阵列的方法，所述方法包括：

将在支持膜上具有正性光致抗蚀剂树脂层的正性干膜抗蚀剂粘附到衬底上，使得光致抗蚀剂树脂层粘附在所述衬底的表面上；

将所述支持膜从粘附到所述衬底表面的光致抗蚀剂树脂层上释放；

将所述层曝光；以及

将在所述正性型光致抗蚀剂树脂层中的曝光区域显影并除去。

2.根据权利要求1所述的方法，该方法还包括：

烘焙所述正性型光致抗蚀剂树脂层，所述烘焙在将所述层曝光的步骤之前或之后进行。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在将所述光致抗蚀剂树脂膜曝光之后，将所述聚合物支持膜从所述光致抗蚀剂树脂膜上释放，并且将所述光致抗蚀剂树脂层进行烘焙处理。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述正性光致抗蚀剂树脂层是由组合物形成的，所述组合物包含：

热固性树脂；

正性光敏化合物；和

第一溶剂，其具有足够高的沸点，以使通过加热可以将第二溶剂从所述组合物中除去，同时将第一溶剂基本上留在所述组合物中。

5.根据权利要求4所述的方法，其中第一溶剂和第二溶剂之间的沸点差为不低于30℃。

6.根据权利要求4所述的方法，其中第一溶剂和第二溶剂之间的沸点差为不低于50℃。

7.根据权利要求4～6所述的方法，其中第一溶剂和第二溶剂是选自由乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇单乙基醚乙酸酯和丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙酮、甲基乙基酮、乙醇、甲醇、丙醇、异丙醇、苯、甲苯、环戊酮、环己酮、乙二醇、二甲苯、乙二醇单乙基醚和二甘醇单乙基醚组成的组中的至少一种。

8.根据权利要求4～6所述的方法，其中第一溶剂具有不低于100℃的沸点，并且第二溶剂具有低于100℃的沸点。

9.根据权利要求5所述的方法，其中第一溶剂是选自由甲苯、乙酸丁酯、环戊酮、乙二醇单乙基醚、二甲苯、环己酮、乙二醇、二甘醇单乙基醚、乙二醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇单乙基醚乙酸酯和丙二醇单乙基醚乙酸酯组成的组中的至少一种，并且第二溶剂是选自由丙酮、甲醇、乙酸乙酯、甲基乙基酮、苯和异丙醇组成的组中的至少一种。

10.根据权利要求1所述的方法，其中基于100重量份的所述碱溶性树脂，所述光致抗蚀剂树脂层包含约30至80重量份的二叠氮化物基化合物、约3至15重量份的灵敏度化合物和约30至120重量份的所述溶剂。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述碱溶性树脂是酚醛清漆树脂。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述二叠氮化物基光敏化合物是选自由1，2-苯醌二叠氮-4-磺酰氯、1，2-萘醌二叠氮-4-磺酰氯和1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯组成的组中的至少一种。

13.根据权利要求10所述的方法，其中所述灵敏度提高剂是由2，3，4-三羟基二苯甲酮、2，2’，4，4’-四羟基二苯甲酮和(1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1，1-二(4-羟基苯基)乙基]苯)组成的组中的至少一种。

14.根据权利要求10所述的方法，其中所述正性型光致抗蚀剂树脂层还包含释放剂。

15.根据权利要求14所述的方法，其中基于100重量份的所述碱溶性树脂，所述正性型光致抗蚀剂树脂层包含约0.5至4重量份的所述释放剂。

16.根据权利要求14所述的方法，其中所述释放剂是氟基硅氧烷。

17.一种显示器用阵列，其包含：

多根信号线和扫描线，它们排列在透明衬底上的格子内，并且每一个所述格子都与薄膜晶体管连接，所述显示器通过包括如下步骤的方法形成：

将在支持膜上具有正性光致抗蚀剂树脂层的正性干膜抗蚀剂粘附到衬底上，使得光致抗蚀剂树脂层粘附在所述衬底的表面上；

将所述支持膜从粘附到所述衬底表面的光致抗蚀剂树脂层上释放；

将所述层曝光；以及

将在所述正性型光致抗蚀剂树脂层中的曝光区域显影并除去。