[发明专利]水系金属材料表面处理剂、表面处理方法以及表面处理金属材料有效

专利信息
申请号: 200680003945.2 申请日: 2006-01-31
公开(公告)号: CN101115867A 公开(公告)日: 2008-01-30
发明(设计)人: 山口英宏;野村信治;岩崎义浩 申请(专利权)人: 日本帕卡濑精株式会社
主分类号: C23C22/48 分类号: C23C22/48
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 樊卫民;郭国清
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 水系 金属材料 表面 处理 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种水系金属表面处理剂,其由在1分子内含有式-SiR1R2R3表示的官能团(a)2个以上,和选自与官能团(a)中含有的羟基不同的羟基、氨基、羧基、磷酸基、膦酸基、磺基、聚氧乙烯链以及酰胺基中的至少1种亲水性官能团(b)1个以上,且每个官能团(b)的分子量为100~10000的有机硅化合物配合而成,在式-SiR1R2R3中的R1、R2及R3相互独立,表示烷基、烷氧基或羟基,且至少一个表示烷氧基。

2.一种水系金属表面处理剂,其由具有官能团(I)的有机化合物(A)和有机化合物(B)配合而成,所述有机化合物(B)含有可以与官能团(I)反应的官能团(II),而且具有选自官能团(I)和/或官能团(II)中能够包含的羟基各不相同的其他羟基,即是与下述官能团(a)中含有的羟基不同的羟基、伯~叔氨基、季铵基、磷酸基、膦酸基、磺基、伯酰胺基、仲酰胺基以及聚氧乙烯链中的至少1种亲水性官能团(III),在该水系金属表面处理剂中,有机化合物(A)和有机化合物(B)中的至少1个为具有式-SiR1R2R3表示的官能团(a)的有机硅烷化合物,式中R1、R2及R3与权利要求1中的含义相同。

3.如权利要求2所述的水系金属表面处理剂,其中,官能团(I)和官能团(II)相互独立,是选自与官能团(a)中含有的羟基不同的羟基、缩水甘油基、伯氨基、仲氨基、巯基、异氰酸基、羧基、羟甲基、活性亚甲基、亚胺基、酰胺基、羰基及乙烯基中的至少1种官能团。

4.如权利要求1~3中任意一项所述的水系金属表面处理剂,其中,还添加了具有2价以上的金属离子的金属化合物(C),当金属离子为Zr、Ti、Hf或Ce离子时,排除胶体分散体的情况。

5.如权利要求1~4中任意一项所述的水系金属表面处理剂,其中,2价以上的金属离子为选自Ti、Zr、Hf、V、Mg、Mn、Zn、W、Mo、Al、Ni、Co、Ce及Ca离子中的至少1种。

6.如权利要求4或5所述的水系金属表面处理剂,其中,由所述水系金属表面处理剂得到的被膜中的金属化合物(C)的含量与来自官能团(a)的Si的含量的质量比(C/Si)为0.01~10.0。

7.如权利要求1~6中任意一项所述的水系金属表面处理剂,其中,通过有机硅化合物之间的反应、或有机化合物(A)和有机化合物(B)反应生成的产物,至少具有1个由2个以上的官能团(a)缩合得到的硅氧烷键。

8.如权利要求1~7中任意一项所述的水系金属表面处理剂,其中,还添加了选自氢氟酸、有机酸及磷酸中的至少1种酸(D)。

9.如权利要求8所述的水系金属表面处理剂,其中,由所述水系金属表面处理剂得到的被膜中的酸(D)的含量与来自官能团(a)的Si含量的质量比(D/Si)为0.01~10.0。

10.如权利要求1~9中任意一项所述的水系金属表面处理剂,其中,还添加了选自Si、Zr、Ti、Sn、Hf、Ce及Nb中的至少1种元素单体或化合物的胶体分散体(E)。

11.一种金属材料的表面处理方法,其特征在于,将如权利要求1~10中任意一项所述的水系金属表面处理剂涂布于金属材料表面,使其干燥,形成含SiO2为10~3000mg/m2的被膜。

12.一种金属材料,其根据权利要求11所述的表面处理方法进行了表面处理。

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