[发明专利]氧化锆增韧氧化铝成分及其在离子和电子光学系统中使用

权利要求书

1.一种离子光学系统，其包括：

用于电离一个或多个化合物的电离器，所述电离器包括多个组件；

用于分离所述一个或多个化合物的离子的质量分离器，所述质量分离器包括多个组件；以及

用于识别所述一个或多个化合物的检测器，所述检测器包括多个组件，

其中，至少所述电离器、所述质量分离器和所述检测器之一中的多个组件中的至少一个组件包括氧化锆和氧化铝成分。

2.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述成分包括至少5％体积的氧化锆。

3.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述成分包括至少20％体积的氧化锆。

4.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述成分包括至少50％体积的氧化锆。

5.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述成分基本上由30％体积的氧化锆和70％体积的氧化铝组成。

6.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述成分基本上由50％体积的氧化锆和50％体积的氧化铝组成。

7.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述至少一个组件是用于电隔离一个或多个其它组件的间隔物。

8.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述至少一个组件是所述电离器的结构杆。

9.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述至少一个组件是所述质量分离器的一个或多个四极的支架。

10.根据权利要求1所述的离子光学系统，其中，所述至少一个组件是绝缘珠。

11.一种离子光学系统，其包括：

用于电离一个或多个化合物的电离器，所述电离器包括至少一个结构杆、至少一个间隔物和用于隔离所述电离器的组件的至少一个珠；

用于分离所述一个或多个化合物的离子的质量分离器，所述质量分离器包括至少一个四极和至少一个用于所述四极的支架；以及

用于识别所述一个或多个化合物的检测器；

其中所述至少一个结构杆、至少一个间隔物、至少一个珠和至少一个支架中的至少一个包括氧化锆和氧化铝成分。

12.根据权利要求11所述的离子光学系统，其中，所述成分包括至少5％体积的氧化锆。

13.根据权利要求11所述的离子光学系统，其中，所述成分包括至少20％体积的氧化锆。

14.根据权利要求11所述的离子光学系统，其中，所述成分包括至少50％体积的氧化锆。

15.根据权利要求11所述的离子光学系统，其中，所述成分基本上由30％体积的氧化锆和70％体积的氧化铝组成。

16.根据权利要求11所述的离子光学系统，其中，所述成分基本上由50％体积的氧化锆和50％体积的氧化铝组成。

17.一种隔离离子光学系统的一个或多个组件的方法，其包括以下步骤：

提供用于电离一个或多个化合物的电离器，所述电离器包括多个组件；

提供用于分离所述一个或多个化合物的离子的质量分离器，所述质量分离器包括多个组件；

提供用于识别所述一个或多个化合物的检测器，所述检测器包括多个组件；以及

提供用于隔离所述电离器、所述质量分离器和所述检测器中至少之一的多个组件中的至少一个组件的至少一个隔离器，所述隔离器包括氧化锆和氧化铝成分。

18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述成分包括至少20％体积的氧化锆。

19.根据权利要求17所述的方法，其中，所述成分基本上由30％体积的氧化锆和70％体积的氧化铝组成。

20.根据权利要求17所述的方法，其中，所述隔离器包括间隔物、珠和支架中的至少一个。