[发明专利]光催化剂、其制造方法、含有光催化剂的分散液及光催化剂涂料组合物有效
申请号: | 200680004384.8 | 申请日: | 2006-02-14 |
公开(公告)号: | CN101115559A | 公开(公告)日: | 2008-01-30 |
发明(设计)人: | 宫添智;锅田贵司;堀内伸彦 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | B01J35/02 | 分类号: | B01J35/02;B01J21/08;B01J37/08;C09D185/00;C09D201/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光催化剂 制造 方法 有光 催化剂 分散 涂料 组合 | ||
1.一种光催化剂,所述光催化剂包含具有光催化剂活性的基体和被覆该基体的实质上不具有细孔的氧化硅膜,碱金属的含量为1ppm以上1000ppm以下。
2.如权利要求1所述的光催化剂,其中碱金属的含量为10ppm以上1000ppm以下。
3.如权利要求1或2所述的光催化剂,在通过氮吸附法测定20~500埃区域的细孔径分布中,没有来自氧化硅膜的细孔。
4.如权利要求1至3中任一项所述的光催化剂,其中所述光催化剂的每1m2表面积的硅载带量为0.10mg以上、2.0mg以下。
5.如权利要求1至4中任一项所述的光催化剂,其中所述基体为锐钛矿型、金红石型、或含有这些的混合物的氧化钛。
6.如权利要求1至5中任一项所述的光催化剂,其中,所述碱金属为钠及/或钾。
7.如权利要求1至6中任一项所述的光催化剂,其中,所述基体为粒子。
8.一种光催化剂的制造方法,是具有光催化剂活性的基体和被覆该基体的实质上无细孔的氧化硅膜的光催化剂的制造方法,其特征在于,包括以下工序(A)~(B),并且在工序(A)中将含有所述基体和硅酸盐二者的混合液的pH维持在5以下,
(A)混合含有所述基体的水性介质和硅酸盐、
含有硅酸盐的水性介质和所述基体、及
含有所述基体的水性介质和含有硅酸盐的水性介质、
中的至少任一组,在所述基体上被覆所述氧化硅膜的工序;
(B)将具有所述氧化硅膜和被该氧化硅膜被覆的所述基体的光催化剂从所述水性介质中分离的工序。
9.如权利要求8所述的光催化剂的制造方法,其中由工序(B)得到的所述光催化剂的碱金属含量为1ppm以上1000ppm以下。
10.如权利要求8所述的光催化剂的制造方法,其中工序由(B)得到的所述光催化剂的碱金属含量为10ppm以上1000ppm以下。
11.如权利要求8所述的光催化剂的制造方法,其特征在于,在所述工序(B)之后,还包括将从所述水性介质中分离的所述光催化剂进行干燥及/或烧成的工序(C)。
12.如权利要求11所述的光催化剂的制造方法,其中由工序(C)得到的所述光催化剂的碱金属含量为1ppm以上1000ppm以下。
13.如权利要求11所述的光催化剂的制造方法,其中由工序(C)得到的所述光催化剂的碱金属含量为10ppm以上1000ppm以下。
14.如权利要求11至13中任一项所述的制造方法,其中所述工序(C)是在200℃以上、1200℃以下烧成所述光催化剂的工序。
15.如权利要求8至14中任一项所述的制造方法,其中所述基体是锐钛矿型、金红石型、或含有这些的混合物的氧化钛。
16.如权利要求8至15中任一项所述的制造方法,其中所述硅酸盐是钠及/或钾的盐。
17.一种光催化剂分散液,由权利要求1所述的光催化剂、液态介质、及分散稳定剂组成。
18.如权利要求17所述的光催化剂分散液,其中所述液态介质为水。
19.如权利要求17所述的光催化剂分散液,其中所述分散稳定剂为离子型表面活性剂。
20.一种光催化剂涂料组合物,由权利要求1所述的光催化剂、液态介质、及粘合剂组成。
21.如权利要求20所述的光催化剂涂料组合物,其中含有钛或硅的化合物作为所述粘合剂。
22.如权利要求21所述的光催化剂涂料组合物,其中所述含有钛的化合物是含有过氧化钛的化合物。
23.如权利要求20所述的光催化剂涂料组合物,其中含有水及/或醇作为所述液态介质。
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